特許
J-GLOBAL ID：201603011524045420
エミッタの作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人栄光特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-025766
公開番号（公開出願番号）：特開2016-115684
出願日： 2016年02月15日
公開日（公表日）： 2016年06月23日
要約：
【課題】トリートメントによる原子の再配列によって、その最先端の結晶構造を再現性良く元の状態に戻すことができると共に、トリートメント後の引出電圧の上昇を抑制でき、長く使用し続けることができるエミッタを得ること。【解決手段】エミッタ素材の先端部を電解研磨加工し、先端に向かって漸次縮径するように加工する電解研磨工程S10と、エミッタ素材における前記加工部分に荷電粒子ビームを照射してエッチング加工を行い、先端を頂点とした角錐状の先鋭部を形成する第1エッチング工程S20と、先鋭部における先端の結晶構造を電界イオン顕微鏡で観察しながら、該先端を電界誘起ガスエッチング加工によりさらに先鋭化させ、その最先端を構成する原子数を一定数以下とさせる第2エッチング工程S30と、エミッタ素材を加熱して、先鋭部の最先端を構成する原子をピラミッド状に配列させる加熱工程S40と、を備えるエミッタの作製方法を提供する。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
先鋭化された針状のエミッタを作製する方法であって、
エミッタ素材の先鋭部における先端の結晶構造を電界イオン顕微鏡で観察しながら、該先端を電界誘起ガスエッチング加工によりさらに先鋭化させ、その最先端を構成する原子数を一定数以下とさせるエッチング工程と、
前記エミッタ素材を加熱して、前記先鋭部の最先端を構成する原子をピラミッド状に配列させる加熱工程と、を備えていることを特徴とするエミッタの作製方法。
IPC (3件)：
H01J 9/02
, H01J 27/26
, H01J 37/317
H01J9/02 B
, H01J27/26
, H01J37/317 D
5C030DF02
, 5C034DD01
, 5C227AA07
, 5C227AA17
, 5C227AB03
, 5C227AB15
, 5C227AC02
, 5C227AD02
, 5C227AD07
, 5C227AD11
, 5C227HH62
, 5C227HH70
, 5C227HH72
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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