特許
J-GLOBAL ID:201603011696229352

グラフェン薄膜の製造方法、並びにグラフェン薄膜を備えた電子素子およびセンサ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 植木 久一 ,  植木 久彦 ,  菅河 忠志 ,  伊藤 浩彰 ,  竹岡 明美
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-172628
公開番号(公開出願番号):特開2016-047777
出願日: 2014年08月27日
公開日(公表日): 2016年04月07日
要約:
【課題】酸化グラフェン薄膜を還元してグラフェン薄膜を製造する方法であって、ホール測定によるキャリア移動度が非常に高いグラフェン薄膜を製造する方法を提供する。【解決手段】本発明に係るグラフェン薄膜の製造方法は、酸化グラフェン薄膜を準備する工程と、炭素含有ガス雰囲気下、1050°C以上の温度で酸化グラフェン薄膜を還元する工程と、を含む。【選択図】なし
請求項(抜粋):
酸化グラフェン薄膜を準備する工程と、 炭素含有ガス雰囲気下、1050°C以上の温度で前記酸化グラフェン薄膜を還元する工程と、 を含むことを特徴とするグラフェン薄膜の製造方法。
IPC (9件):
C01B 31/02 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336 ,  H01L 21/28 ,  H01L 29/78 ,  G01N 27/00 ,  H01L 51/05 ,  H01L 51/30 ,  H01L 29/06
FI (11件):
C01B31/02 101Z ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 618A ,  H01L21/28 301B ,  H01L21/28 301R ,  H01L29/78 301J ,  H01L29/78 301B ,  G01N27/00 J ,  H01L29/28 100A ,  H01L29/28 250E ,  H01L29/06 601N
Fターム (43件):
2G060AA07 ,  2G060AA15 ,  2G060AD06 ,  2G060AE18 ,  2G060DA02 ,  2G060DA14 ,  2G060DA27 ,  4G146AA02 ,  4G146AB07 ,  4G146AC30A ,  4G146AD28 ,  4G146BA50 ,  4G146BC22 ,  4G146BC25 ,  4G146BC26 ,  4G146BC31A ,  4G146BC34A ,  4M104AA09 ,  4M104AA10 ,  4M104BB01 ,  4M104BB05 ,  4M104CC01 ,  4M104CC05 ,  4M104DD34 ,  4M104DD35 ,  4M104EE15 ,  4M104GG08 ,  5F110AA07 ,  5F110AA28 ,  5F110BB09 ,  5F110CC07 ,  5F110DD05 ,  5F110DD13 ,  5F110EE08 ,  5F110FF02 ,  5F110FF23 ,  5F110GG01 ,  5F110HK02 ,  5F110HK21 ,  5F110HK32 ,  5F140AA40 ,  5F140AC37 ,  5F140BA01

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