特許
J-GLOBAL ID:201603011774413971

半導体装置及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 高田 守 ,  高橋 英樹 ,  久野 淑己
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-113124
公開番号(公開出願番号):特開2014-232803
特許番号:特許第5842866号
出願日: 2013年05月29日
公開日(公表日): 2014年12月11日
請求項(抜粋):
【請求項1】 半導体基板と、 前記半導体基板の表面上に形成された第1の絶縁膜と、 前記第1の絶縁膜上に形成された温度センスダイオードと、 前記半導体基板の前記表面から内部にのびるトレンチ内に第2の絶縁膜を介して埋め込まれ、前記温度センスダイオードに接続されたトレンチ電極とを備え、 前記温度センスダイオードはn+型層、p+型層、及びn-型層を有し、 前記トレンチ電極は前記n+型層に接続され、 前記トレンチ電極は、前記n+型層と一体的に形成されていることを特徴とする半導体装置。
IPC (8件):
H01L 27/04 ( 200 6.01) ,  H01L 29/78 ( 200 6.01) ,  H01L 21/822 ( 200 6.01) ,  H01L 21/8234 ( 200 6.01) ,  H01L 27/06 ( 200 6.01) ,  G01K 1/18 ( 200 6.01) ,  H01L 29/739 ( 200 6.01) ,  H01L 29/86 ( 200 6.01)
FI (8件):
H01L 29/78 657 A ,  H01L 27/04 A ,  H01L 27/06 102 A ,  H01L 27/04 H ,  G01K 1/18 ,  H01L 29/78 653 A ,  H01L 29/78 655 Z ,  H01L 29/86 Z
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2009-106917   出願人:トヨタ自動車株式会社
  • 半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2011-056317   出願人:富士電機株式会社
  • 半導体装置およびその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-389626   出願人:株式会社豊田自動織機
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