特許
J-GLOBAL ID：201603012194250923

感光性組成物、成形物の製造方法、成形物および半導体装置

発明者：
末光 由樹

末光 由樹 について

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川島 直之

川島 直之 について

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菅原 周一

菅原 周一 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (2件)： 衡田 直行 ,  村地 俊弥
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-159271
公開番号（公開出願番号）：特開2013-241554
特許番号：特許第5895757号
出願日： 2012年07月18日
公開日（公表日）： 2013年12月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 第1のプレート及び第2のプレートの少なくともいずれか一方に感光性組成物を塗布し、感光性組成物の塗膜を形成する工程と、 前記感光性組成物の塗膜を介して、前記第1のプレートと前記第2のプレートとを押し付ける工程と、 前記第1のプレートと前記第2のプレートとを前記感光性組成物の塗膜を介して、押し付けた状態で、前記感光性組成物の塗膜を露光する工程と、 前記第1のプレートと前記第2のプレートとを分離する工程と、 露光した前記感光性組成物の塗膜を加熱する工程と、を含み、 前記第1のプレート及び前記第2のプレートの少なくともいずれか一方は、凹凸を含むパターンをその表面に有し、前記第1のプレートと前記第2のプレートとを押し付ける工程において、前記感光性組成物の塗膜は前記パターンに合わせて形状を変化させる、成形物の製造方法であって、 前記感光性組成物が、(a)下記一般式(1)で表されるチオエーテル化合物、 (上記一般式(1)中、R1及びR2は、それぞれ独立に炭素数1〜20の有機基である。) (b)光重合開始剤(ただし、フォスフィンオキサイド化合物、及び、α-アミノアルキルフェノン化合物を除く。)、及び、 (c)1分子内に1〜6個の(メタ)アクリロイル基を有する化合物、 を含み、 前記(b)成分が、下記一般式(2)で表される基を有するヒドロキシケトン化合物であり、 (上記一般式(2)中、R4及びR5はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数1〜20の有機基であり、R4及びR5は炭素数3〜20の環状構造を有する一つの有機基を形成していてもよい。) 前記(a)成分と(b)成分と(c)成分との合計量を100質量部とした場合、前記(a)成分の含有量が0.05〜5質量部で、かつ、前記(b)成分の含有量が1〜5質量部であり、 前記(a)成分と(b)成分と(c)成分との合計量を100質量部とした場合、前記(c)成分が、 (c-1)下記一般式(3)で表されるフルオレン化合物を20〜50質量部、及び、 (上記一般式(3)中、R6及びR7は、それぞれ独立に炭素数2〜4の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基である。R8及びR9は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基である。a及びbは、整数であり、かつ、a+b=0〜24である。一般式(3)中のフルオレン骨格は、炭素数1〜28の置換基を有していてもよい。) (c-2)下記一般式(4)で表されるビフェニル化合物を10〜50質量部含む、成形物の製造方法。 (上記一般式(4)中、R10は水素原子又はメチル基である。cは0〜24の整数である。一般式(4)中のビフェニル骨格は、炭素数1〜28の置換基を有していてもよい。)
IPC (2件)：
C08F 2/50 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (3件)：
C08F 2/50 ,  H01L 21/30 502 D ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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