特許
J-GLOBAL ID：201603012328041340
相対的なクリティカルディメンションの測定のための方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-545153
公開番号（公開出願番号）：特表2016-502094
出願日： 2013年11月25日
公開日（公表日）： 2016年01月21日
要約：
一実施形態は、ターゲット基板の電子ビーム検査の際の相対的なクリティカルディメンション(RCD)を測定する方法に関する。参照画像を得る。参照画像において対象領域を画定する。電子ビーム画像化装置を用いてターゲット画像を得る。ターゲット画像および参照画像の位置合わせをし、ターゲット画像中に対象領域を設置する。次いで、ターゲット画像における対象領域内でRCDの測定を行う。別の実施形態は、RCDを測定する方法であって、RCDに垂直な走査長さに沿って走査することを含む方法に関する。走査長さに沿って点RCDを測定する。点RCDにフィルタを適用し、点RCDの平均を計算する。他の実施形態、態様および特徴も開示する。
請求項（抜粋）：
ターゲット基板の電子ビーム検査の際の相対的なクリティカルディメンションを測定する方法であって、
参照画像を得ることと、
前記参照画像において対象領域を画定することと、
電子ビーム画像化装置を用いてターゲット画像を得ることと、
前記ターゲット画像および参照画像の位置合わせをすることと、
前記ターゲット画像中に前記対象領域を設置することと、
前記ターゲット画像中の前記対象領域内で相対的なクリティカルディメンションを測定することと、
を含む方法。
IPC (4件)：
G01B 15/04
, G03F 1/86
, H01J 37/28
, H01J 37/22
G01B15/04 K
, G03F1/86
, H01J37/28 B
, H01J37/22 502H
2F067AA04
, 2F067AA53
, 2F067BB12
, 2F067CC15
, 2F067EE06
, 2F067HH10
, 2F067KK04
, 2F067QQ02
, 2H195BA02
, 2H195BD03
, 2H195BD14
, 2H195BD22
, 2H195BD25
, 5C033UU04
, 5C033UU05
, 5C033UU10
