製品ガス処理装置、及び製品ガスを処理する方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：アインゼル・フェリックス=ラインハルト , 前川純一 , 二宮浩康 , 上島類
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-027935
公開番号（公開出願番号）：特開2016-150340
出願日： 2016年02月17日
公開日（公表日）： 2016年08月22日
要約：

【課題】エネルギ効率的であり、かつコスト的に有利な製品ガス処理装置、及び製品ガスを処理する方法を提供すること。【解決手段】上記課題は、第1製品ガス(P1)を生成する電解槽(E1)と、前記電解槽(E1)に下流側において接続された分離膜(T1)とを有する製品ガス処理装置(G1)であって、前記分離膜(T1)は、支持液膜(S1)及び/又はゼオライト膜(Z1)を有し、前記第1製品ガス(P1)は、前記分離膜(T1)を少なくとも部分的に透過可能であり、前記第1製品ガス(P1)よりも高い純度を有する第2製品ガスを生成可能であることを特徴とする、製品ガス処理装置(G1)によって解決される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

第1製品ガス(P1)を生成する電解槽(E1)と、前記電解槽(E1)に下流側において接続された分離膜(T1)とを有する製品ガス処理装置(G1)であって、前記分離膜(T1)は、支持液膜(S1)及び/又はゼオライト膜(Z1)を有し、前記第1製品ガス(P1)は、前記分離膜(T1)を少なくとも部分的に透過可能であり、前記第1製品ガス(P1)よりも高い純度を有する第2製品ガス(P2)を生成可能であることを特徴とする、製品ガス処理装置(G1)。

IPC (4件)：

B01D 53/22 , B01D 71/02 , B01D 69/00 , B01D 71/06

FI (4件)：

B01D53/22 , B01D71/02 500 , B01D69/00 500 , B01D71/06

Fターム (19件)：

4D006GA41 , 4D006HA41 , 4D006JA51Z , 4D006MA03 , 4D006MA18 , 4D006MB04 , 4D006MC03 , 4D006MC08 , 4D006PA01 , 4D006PB62 , 4D006PB65 , 4D006PB66 , 4D006PC80 , 4K021AA01 , 4K021BA02 , 4K021BC01 , 4K021BC04 , 4K021CA11 , 4K021DC03

引用特許：

審査官引用 (5件)

水素ガスの製造装置。
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-078030 出願人：株式会社フクハラ
ガス回収方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-301114 出願人：日本碍子株式会社
特開昭55-119420

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引用文献：

審査官引用 (3件)

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