特許
J-GLOBAL ID:201603012599031056
光照射装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大井 正彦
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-266563
公開番号(公開出願番号):特開2014-209548
特許番号:特許第5861696号
出願日: 2013年12月25日
公開日(公表日): 2014年11月06日
請求項(抜粋):
【請求項1】 酸素雰囲気下に配置される被処理物に対して真空紫外光を出射する紫外線出射ランプと、前記被処理物と前記紫外線出射ランプとの間に配置された、当該紫外線出射ランプからの真空紫外光を透過する光透過窓とを備えた光照射装置において、
前記光透過窓が被処理物押さえ用スペーサを介して前記被処理物の被処理面に対して押圧状態で当接されて配置されて、当該光透過窓の光出射側の表面と当該被処理物の被処理面との間の距離が一定の大きさとされる間隙が形成されることを特徴とする光照射装置。
IPC (5件):
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, F21S 2/00 ( 201 6.01)
, H05K 3/26 ( 200 6.01)
, F21Y 103/00 ( 201 6.01)
FI (6件):
H01L 21/30 572 A
, H01L 21/30 527
, G03F 7/20 501
, F21S 2/00 390
, H05K 3/26 B
, F21Y 103:00
引用特許:
出願人引用 (8件)
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紫外線照射装置と照射方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-241813
出願人:齋藤俊幸
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膜の除去方法及び膜除去用装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-056894
出願人:富士通セミコンダクター株式会社
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処理装置及び処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-108528
出願人:東京エレクトロン株式会社
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基板熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-163770
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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洗浄方法及び処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-056228
出願人:東京エレクトロン株式会社
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ウエハ乾燥機構
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-001031
出願人:ソニー株式会社
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基板処理装置およびその処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-099129
出願人:株式会社スプラウト
-
基板処理方法と装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-155455
出願人:ヤマハ株式会社
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審査官引用 (8件)
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ウエハ乾燥機構
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-001031
出願人:ソニー株式会社
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紫外線照射装置と照射方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-241813
出願人:齋藤俊幸
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膜の除去方法及び膜除去用装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-056894
出願人:富士通セミコンダクター株式会社
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基板処理方法と装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-155455
出願人:ヤマハ株式会社
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処理装置及び処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-108528
出願人:東京エレクトロン株式会社
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基板熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-163770
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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洗浄方法及び処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-056228
出願人:東京エレクトロン株式会社
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基板処理装置およびその処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-099129
出願人:株式会社スプラウト
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