露光装置、それを用いたデバイスの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高岡亮一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-041510
公開番号（公開出願番号）：特開2013-178347
特許番号：特許第6029289号
出願日： 2012年02月28日
公開日（公表日）： 2013年09月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】照明系からの光を原版に形成されたパターンに照射し、投影光学系を介して前記パターンの像を基板上に露光する露光装置であって、前記照明系における前記投影光学系の物体面となる基板面と共役な面に配置され、前記基板上の前記像が形成される領域を規定する前記基板の外周よりも内側の円形境界線に重なる円弧を縁に含み、前記基板上の前記円形境界線より外側の外周領域に対して光が入射しないように光を遮断する遮光板と、前記遮光板を前記照明系の光軸に平行な軸の回りに回転駆動する第1駆動部と、前記遮光板を前記光軸に垂直な平面内で直線駆動する第2駆動部と、前記遮光板により形成される遮光領域と前記光で露光される露光領域との境界を示す、遮光位置を検出する検出部と、基準の時点において前記遮光板を検査ポジションに位置させた状態での遮光位置と、前記基準の時点の後の、前記遮光板を前記遮光板とは異なる遮光板に変更する前と変更する後とにおいてそれぞれ検出された、前記遮光板を前記検査ポジションに位置させた状態での前記遮光位置と、前記異なる遮光板を前記検査ポジションに位置させた状態での遮光位置とを記憶し、前記遮光板を変更した後のある時点にて前記検出部により検出される遮光位置と、前記基準の時点での遮光位置と、前記遮光板を変更する前と変更した後との遮光位置の差分に基づいて、前記基準の時点から前記ある時点までの前記遮光位置の変化量を算出する制御部と、を備えることを特徴とする露光装置。

IPC (1件)：

G03F 7/20 ( 200 6.01)

FI (1件)：

G03F 7/20 521

引用特許：

出願人引用 (5件)

露光装置及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-123051 出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
リソグラフィ装置及び物品の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-104232 出願人：キヤノン株式会社
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-180551 出願人：キヤノン株式会社

全件表示

審査官引用 (5件)

露光装置及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-123051 出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
リソグラフィ装置及び物品の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-104232 出願人：キヤノン株式会社
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-180551 出願人：キヤノン株式会社

全件表示

前のページに戻る