気相成長装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：石川壽彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-221860
公開番号（公開出願番号）：特開2014-075469
特許番号：特許第6013122号
出願日： 2012年10月04日
公開日（公表日）： 2014年04月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】チャンバー本体とチャンバー蓋とに上下に分割可能なチャンバー内に設置された基板上に原料ガスを供給して前記基板上に薄膜を成長させる気相成長装置であって、円板状からなり前記チャンバー本体側に着脱可能に設置されて前記基板を保持する基板保持部を備えるサセプタと、該サセプタにおける前記基板保持部以外の部位を覆うように該サセプタ上に載置されるサセプタカバーと、前記サセプタと前記サセプタカバーを前記チャンバーの内外に搬送する搬送アームと、前記サセプタまたは前記サセプタカバーを下方から突き上げて昇降可能に支持する突き上げ昇降機構とを備え、前記サセプタの外周部には複数の貫通孔が設けられており、前記突き上げ昇降機構は、前記チャンバー本体の外周部に昇降可能に立設された複数の突き上げ棒と、前記サセプタを回転させて前記各貫通孔の位置と前記突き上げ棒の上端面との相対位置を制御することによって、前記突き上げ棒を上昇させる際に、前記各貫通孔を貫通させるか、貫通させないかを選択する機能とを有することを特徴とする気相成長装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 ( 200 6.01) , C23C 16/44 ( 200 6.01)

FI (2件)：

H01L 21/205 , C23C 16/44 F

引用特許：

出願人引用 (5件)

プラズマ処理装置用のトレイ
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-297380 出願人：松下電器産業株式会社
サセプタカバー、該サセプタカバーを備えた気相成長装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-041193 出願人：大陽日酸株式会社, 大陽日酸イー・エム・シー株式会社
気相成長装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-075369 出願人：大陽日酸株式会社, 大陽日酸イー・エム・シー株式会社

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審査官引用 (5件)

プラズマ処理装置用のトレイ
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-297380 出願人：松下電器産業株式会社
サセプタカバー、該サセプタカバーを備えた気相成長装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-041193 出願人：大陽日酸株式会社, 大陽日酸イー・エム・シー株式会社
気相成長装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-075369 出願人：大陽日酸株式会社, 大陽日酸イー・エム・シー株式会社

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