特許
J-GLOBAL ID：201603012925313954
リソグラフィー用現像またはリンス液およびそれを用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
鐘尾 宏紀
, 松本 征二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-132043
公開番号（公開出願番号）：特開2013-257379
特許番号：特許第6027779号
出願日： 2012年06月11日
公開日（公表日）： 2013年12月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 酸の作用により極性が増大する樹脂を含有し、活性光線または放射線の照射によりネガ型現像液に対する溶解度が減少するレジスト組成物を用い、露光後ネガ型現像し、リンスすることによりネガパターンを形成するレジストパターン形成方法に用いられるネガ型現像またはリンス液において、該現像またはリンス液が、1-オクタノン、2-オクタノン、1-ノナノン、2-ノナノン、4-ヘプタノン、1-ヘキサノン、2-ヘキサノンおよびメチルアミルケトンからなるケトン系溶剤、および酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピルおよび酢酸アミルからなるエステル系溶剤、から選ばれた少なくとも1種の有機溶剤と、CF3(CF2)5CH2CH3およびCF3CF2CF(OCH3)CF(CF3)CF3からなるフッ素系有機溶剤、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサンおよびデカメチルテトラシロキサンからなるシロキサン系溶剤、および2-メチルヘキサン、3-メチルヘキサン、2,2,3-トリメチルペンタン、イソオクタンおよび2,2,5-トリメチルヘキサンからなる炭化水素系溶剤、から選ばれた少なくとも1種の溶剤を含有し、前記フッ素系有機溶剤、シロキサン系溶剤および炭化水素系溶剤から選ばれた少なくとも一種の溶剤は、ネガ型現像またはリンス液の全溶剤質量に対し2〜50質量%であることを特徴とするネガ型現像またはリンス液。
IPC (2件)：
G03F 7/32 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/32
, G03F 7/32 501
, H01L 21/30 569 E
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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