特許
J-GLOBAL ID：200903023235614419
ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-190971
公開番号（公開出願番号）：特開2009-025723
出願日： 2007年07月23日
公開日（公表日）： 2009年02月05日
要約：
【課題】ラインエッジラフネスが小さく、パターン倒れ性能が良好なネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)特定の脂環炭化水素構造から選ばれる、異なる部分構造を有する繰り返し単位を少なくとも2種類有し、酸の作用により極性が増大し、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(pI)〜(pV)から選ばれる、異なる部分構造を有する繰り返し単位を少なくとも2種類有し、酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)溶剤を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/038
, G03F 7/32
, H01L 21/027
G03F7/038 601
, G03F7/32
, H01L21/30 502R
2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD07
, 2H025BD43
, 2H025BE00
, 2H025CC03
, 2H025FA15
, 2H096AA25
, 2H096AA27
, 2H096BA06
, 2H096BA20
, 2H096EA05
, 2H096FA01
, 2H096GA03
, 2H096GA08
, 2H096GA17
