特許
J-GLOBAL ID：201603013221402974
高純度シリカゾルおよびその製造方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
右田 俊介
, 高橋 政治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-284078
公開番号（公開出願番号）：特開2013-151409
特許番号：特許第6016625号
出願日： 2012年12月27日
公開日（公表日）： 2013年08月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 次の工程[1]〜[4]を備える高純度シリカゾルの製造方法。
[1]珪酸アルカリ水溶液(a)を限外濾過して、精製珪酸アルカリ水溶液(b)を得る工程。
[2]前記精製珪酸アルカリ水溶液(b)にイオン交換法を適用し、前記精製珪酸アルカリ水溶液(b)に含まれる陽イオン成分の少なくとも一部を除去して、精製珪酸液を得る工程。
[3]前記精製珪酸液にキレートイオン交換樹脂を用いたイオン交換法(但し、空間速度0.5〜10h-1の範囲)を適用して、高純度珪酸液を得る工程。
[4]前記高純度珪酸液の一部をシード液、別の一部をフィード液とし、前記シード液をアルカリ性に調整した後、これを前記フィード液と混合して、シリカdry量でのCu濃度が40ppb以下およびNi濃度が20ppb以下の高純度シリカゾルを得る工程。
IPC (2件)：
C01B 33/141 ( 200 6.01)
, C01B 33/151 ( 200 6.01)
C01B 33/141
, C01B 33/151
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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