高純度水性シリカゾルの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田政久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-221164
公開番号（公開出願番号）：特開2006-036605
出願日： 2004年07月29日
公開日（公表日）： 2006年02月09日
要約：

【課題】アルカリ金属等の不純物が極めて少なく安定性に優れた水性シリカゾルを製造する。【解決手段】この高純度水性シリカゾルの製造方法は、珪酸アルカリを原料として調製された水性シリカゾルに酸を加えることにより、そのpHを0〜3.0の範囲に調整し、40〜300°Cで加熱する工程(1)と、前記加熱後の水性シリカゾルに、強塩基性陰イオン交換体を接触させ、更に強酸性陽イオン交換体を接触させる工程(2)とを含んでいる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

次の工程(1)と工程(2)を含んでなる高純度水性シリカゾルの製造方法。 (1)珪酸アルカリを原料として調製された水性シリカゾルに酸を加えることにより、そのpHを0〜3.0の範囲に調整し、40〜300°Cで加熱する工程 (2)前記加熱後の水性シリカゾルに、強塩基性陰イオン交換体を接触させ、更に強酸性陽イオン交換体を接触させる工程

IPC (2件)：

C01B 33/143 , C01B 33/146

FI (2件)：

C01B33/143 , C01B33/146

Fターム (22件)：

4G072AA25 , 4G072AA28 , 4G072CC01 , 4G072EE01 , 4G072GG03 , 4G072HH18 , 4G072HH21 , 4G072HH22 , 4G072JJ14 , 4G072JJ15 , 4G072JJ16 , 4G072JJ41 , 4G072KK03 , 4G072KK20 , 4G072LL06 , 4G072PP01 , 4G072RR06 , 4G072SS01 , 4G072SS10 , 4G072SS14 , 4G072UU01 , 4G072UU30

引用特許：

出願人引用 (6件)

シリカゾルの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-033705 出願人：日産化学工業株式会社
水性シリカゾルの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-167973 出願人：旭電化工業株式会社
特開昭61-158810号公報

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審査官引用 (4件)

特開昭63-285112
特開昭63-285112
シリカゾルの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-321260 出願人：触媒化成工業株式会社

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