特許
J-GLOBAL ID：201603013941930684

マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系

発明者：
シュレゼナー フランク

シュレゼナー フランク について

, 
ゼンガー インゴ

ゼンガー インゴ について


出願人/特許権者：
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー について


代理人 (8件)： 辻居 幸一 ,  熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  西島 孝喜 ,  須田 洋之 ,  上杉 浩 ,  近藤 直樹 ,  谷口 信行
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-502173
特許番号：特許第5928653号
出願日： 2013年03月01日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系であって、 ミラー装置によって反射された光の角度分布を変更するために互いに独立して調節可能である複数のミラー要素(120a,120b,120c,...)を有する少なくとも1つのミラー装置(120,320,420,520,620,720,820,920,960)と、 前記投影露光装置の作動中に通過する光ビームに対して、該光ビームの断面によって異なる偏光状態を設定することができる偏光影響光学装置(110,210,310,410,510,610,710,810,910,950)と、 光伝播方向に前記偏光影響光学装置の上流に配置され、かつ前記投影露光装置内のどこにでも存在する偏光分布の外乱を少なくとも部分的に補償するリターダー装置(130,230,330,430,530,630,730,830,930,970)と、 を含み、 前記偏光影響光学装置は、互いに対するそれらの相対位置において調節可能である光学構成要素(111-113,311-313,411-413,511-513,611-613,711-713,811-813,911-913,951-953)を有し、異なる出力偏光分布を前記ミラー装置(120,320,420,520,620,720,820,920,960)と共にこの調節によって生成することができる、 ことを特徴とする光学系。
IPC (2件)：
G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  G02B 19/00 ( 200 6.01)
FI (2件)：
G03F 7/20 521 ,  G02B 19/00
引用特許：
審査官引用 (2件)

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