特許
J-GLOBAL ID:201103041814118390
照明システム及びリソグラフィ装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-056066
公開番号(公開出願番号):特開2011-199285
出願日: 2011年03月15日
公開日(公表日): 2011年10月06日
要約:
【課題】偏光照明モードをより柔軟に生成可能なように構成された照明システム及びリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】偏光モディファイアが放射ビームの少なくとも一部に修正された偏光を加えるように、それぞれの偏光モディファイアを放射ビームとの少なくとも部分的な交差部内に移動させるように構成されたアクチュエータに各々が接続された第1及び第2の偏光モディファイアを備える偏光部材と、該偏光部材を通過した後の放射ビームを受光する位置にある個別に制御可能な反射素子のアレイとを備える照明システムであって、第1及び第2の偏光モディファイアが放射ビームの異なる部分と交差するようにアクチュエータを制御することができるコントローラをさらに備える照明システム。【選択図】図1
請求項(抜粋):
偏光モディファイアが放射ビームの少なくとも一部に修正された偏光を加えるように、それぞれの偏光モディファイアを放射ビームとの少なくとも部分的な交差部内に移動させるアクチュエータに各々が接続された第1及び第2の偏光モディファイアを備える偏光部材と、前記偏光部材を通過した後の前記放射ビームを受光する位置にある個別に制御可能な反射素子のアレイとを備える照明システムであって、
前記第1及び第2の偏光モディファイアが前記放射ビームの異なる部分と交差するように前記アクチュエータを制御可能なコントローラをさらに備え、個別に制御可能な反射素子のアレイの一部が前記第1及び第2の偏光モディファイアによってその偏光を修正された放射ビームの一部を受光し、個別に制御可能な反射素子の前記アレイの一部が前記第2の偏光モディファイアではなく前記第1の偏光モディファイアによってその偏光を修正された前記放射ビームの一部を受光する照明システム。
IPC (3件):
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G02B 19/00
FI (3件):
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
, G02B19/00
Fターム (12件):
2H052BA02
, 2H052BA03
, 2H052BA09
, 2H052BA12
, 5F146BA03
, 5F146CA04
, 5F146CB02
, 5F146CB12
, 5F146CB13
, 5F146CB15
, 5F146CB43
, 5F146DA01
引用特許: