成膜装置

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：吉井剛 , 吉井雅栄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-275613
公開番号（公開出願番号）：特開2014-118611
特許番号：特許第6008731号
出願日： 2012年12月18日
公開日（公表日）： 2014年06月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】成膜源から射出した成膜材料が堆積することによって基板上に薄膜が形成される真空槽を有する成膜装置において、前記基板若しくは前記成膜源を搬送させる搬送機構を備え、この搬送機構は、移動部と、この移動部の移動をガイドするガイド部とから成り、このガイド部は、真空槽の外部に設けられ前記真空槽の壁面に設けた貫通孔を貫通するガイド支柱に支持される構成とし、このガイド支柱若しくはガイド支柱の設置部と前記貫通孔の周囲の壁面とを伸縮部材を介して気密状態で連結し、前記搬送機構により前記基板を搬送する場合は、前記成膜源が、真空槽の外部に設けられ前記真空槽の壁面に設けた貫通孔を貫通するベース支柱に支持されるベース部に保持される構成とし、このベース支柱若しくはベース支柱の設置部と前記貫通孔の周囲の壁面とを伸縮部材を介して気密状態で連結して、前記搬送機構により前記成膜源を搬送する場合は、前記基板を保持する保持部が、真空槽の外部に設けられ前記真空槽の壁面に設けた貫通孔を貫通するベース支柱に支持されるベース部に保持される構成とし、このベース支柱若しくはベース支柱の設置部と前記貫通孔の周囲の壁面とを伸縮部材を介して気密状態で連結して、前記搬送機構及び前記成膜源若しくは前記基板が前記真空槽の減圧による壁面の変形の影響を受けずに前記成膜源と前記基板との位置関係が維持されるように構成し、前記ガイド部は前記移動部の移動方向に延設される構成であり、前記ガイド支柱は前記移動部の移動方向に沿って複数設けたことを特徴とする成膜装置。

IPC (1件)：

C23C 14/24 ( 200 6.01)

FI (1件)：

C23C 14/24 J

引用特許：

出願人引用 (5件)

真空成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-046237 出願人：新明和工業株式会社
成膜装置及びこれを用いた成膜方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-211801 出願人：キヤノン株式会社
蒸着装置並びに蒸着方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-027900 出願人：キヤノントッキ株式会社

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審査官引用 (5件)

真空成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-046237 出願人：新明和工業株式会社
成膜装置及びこれを用いた成膜方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-211801 出願人：キヤノン株式会社
蒸着装置並びに蒸着方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-027900 出願人：キヤノントッキ株式会社

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