特許
J-GLOBAL ID：201603014244243136
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-009967
公開番号（公開出願番号）：特開2016-134352
出願日： 2015年01月22日
公開日（公表日）： 2016年07月25日
要約：
【課題】プラズマイオン密度分布の均一性を高めることができる技術を提供する。【解決手段】複数の誘導結合型アンテナ41が、基材9の主面Sの中央部に対向して配置された少なくとも1つの基準アンテナ41aと、基材9の主面Sの端部に対向して配置された複数の補助アンテナ41bと、を有する。高周波電力供給部は少なくとも1つの基準アンテナ41aと複数の補助アンテナ41bとで異なる高周波電力を供給可能である。このため、基材9の主面Sの中央部と端部とにおいてより均一なプラズマ密度分布でプラズマが生成される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
内部に処理空間を形成するチャンバーと、
前記処理空間内で処理対象となる基材を保持する保持部と、
前記処理空間内で、前記保持部に保持された前記基材の主面に対向して配置された複数の誘導結合型アンテナと、
前記複数の誘導結合型アンテナにそれぞれ高周波電力を供給する高周波電力供給部と、
前記処理空間にガスを供給するガス供給部と、
を備え、
前記複数の誘導結合型アンテナは、
前記主面の中央部に対向して配置された少なくとも1つの基準アンテナと、
前記主面の端部に対向して配置された複数の補助アンテナと、
を有し、
前記高周波電力供給部は、前記少なくとも1つの基準アンテナと前記複数の補助アンテナとで異なる高周波電力を供給可能であることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H05H 1/46
, H01L 21/306
, C23C 16/509
H05H1/46 L
, H01L21/302 101C
, C23C16/509
4K030FA04
, 4K030JA02
, 4K030JA03
, 4K030JA16
, 4K030KA30
, 5F004AA01
, 5F004BA20
, 5F004BD04
