特許
J-GLOBAL ID:201603016183170338

基材の金属表面の被覆法およびこの方法により被覆された物品

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  久野 琢也
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-543450
公開番号(公開出願番号):特表2016-504493
出願日: 2013年11月25日
公開日(公表日): 2016年02月12日
要約:
本発明は、表面の被覆法、相応する被覆ならびに前記方法により被覆された物品の使用に関する。本発明によれば、この課題は、次の工程:I.清浄化された金属表面を有する基材を準備する工程、II.金属表面を分散液および/または懸濁液の形の水性組成物と接触させかつ当該水性組成物で被覆する工程、III.任意に、有機被覆を洗浄する工程およびIV.前記有機被覆を乾燥させ、および/または焼き付ける工程またはV.任意に、乾燥前および/または焼付け前に、前記有機被覆を乾燥させかつ同じ種類の被覆組成物またはさらなる被覆組成物で被覆する工程を含むかまたは当該工程からなる基材の金属表面を被覆する方法であって、工程IIにおいて、元素のチタン、ジルコニウム、ハフニウム、ケイ素、アルミニウムおよび/またはホウ素の六フッ化物または四フッ化物からなる群から選択されたフッ化物錯体をカチオンに対して、1.1 10-6モル/l〜0.30モル/lの量で含有する、分散液および/または懸濁液の形の水性組成物による被覆が行なわれ、その際に、0.5〜7.0のpH値の範囲内で安定性である、2〜40質量%の固体含量および10〜1000nmの平均粒度を有する、皮膜形成性ポリマーからなるアニオン的に安定化された分散液および/または皮膜形成性無機粒子からなる懸濁液に、少なくとも1つのアニオン性高分子電解質が、生じる混合物の全質量に対して、0.01〜5.0質量%の量で添加され、その際に、前記水性組成物は、0.5〜7.0の範囲内のpH値を有しかつ前記金属表面から溶出されたカチオンを結合する、イオノゲン性のゲルをベースとする被覆を形成させ、かつ、前記カチオンは、前処理段階および/または工程IIでの接触に由来することを特徴とする、前記方法によって解決される。
請求項(抜粋):
次の工程: I.清浄化された金属表面を有する基材を準備する工程、 II.金属表面を分散液および/または懸濁液の形の水性組成物と接触させかつ当該水性組成物で被覆する工程、 III.任意に、有機被覆を洗浄する工程および IV.前記有機被覆を乾燥させ、および/または焼き付ける工程または V.任意に、乾燥前および/または焼付け前に、前記有機被覆を乾燥させかつ同じ種類の被覆組成物またはさらなる被覆組成物で被覆する工程を含むかまたは当該工程からなる、基材の金属表面を被覆する方法であって、 工程IIにおいて、元素のチタン、ジルコニウム、ハフニウム、ケイ素、アルミニウムおよび/またはホウ素の六フッ化物または四フッ化物からなる群から選択されたフッ化物錯体を、カチオンに対して、1.1 10-6モル/l〜0.30モル/lの量で含有する、分散液および/または懸濁液の形の水性組成物による被覆を行ない、その際に、0.5〜7.0のpH値の範囲内で安定性である、2〜40質量%の固体含量および10〜1000nmの平均粒度を有する、皮膜形成性ポリマーからなるアニオン的に安定化された分散液および/または皮膜形成性無機粒子からなる懸濁液に、少なくとも1つのアニオン性高分子電解質を、生じる混合物の全質量に対して、0.01〜5.0質量%の量で添加し、その際に、前記水性組成物は、0.5〜7.0の範囲内のpH値を有しかつ前記金属表面から溶出されたカチオンを結合する、イオノゲン性のゲルをベースとする被覆を形成させ、かつ、前記カチオンは、前処理段階および/または工程IIにおける接触に由来することを特徴とする、前記方法。
IPC (4件):
C23C 22/34 ,  B05D 1/36 ,  B05D 7/14 ,  C25D 13/20
FI (4件):
C23C22/34 ,  B05D1/36 A ,  B05D7/14 Z ,  C25D13/20 C
Fターム (41件):
4D075AE03 ,  4D075AE05 ,  4D075AE13 ,  4D075BB89Y ,  4D075CA33 ,  4D075DB02 ,  4D075EA06 ,  4D075EA10 ,  4D075EA13 ,  4D075EA41 ,  4D075EB22 ,  4D075EB33 ,  4D075EB38 ,  4D075EB56 ,  4D075EB57 ,  4D075EC01 ,  4D075EC07 ,  4D075EC54 ,  4K026AA01 ,  4K026AA02 ,  4K026AA06 ,  4K026AA07 ,  4K026AA08 ,  4K026AA09 ,  4K026AA10 ,  4K026AA11 ,  4K026AA22 ,  4K026AA24 ,  4K026BA01 ,  4K026BB08 ,  4K026CA13 ,  4K026CA14 ,  4K026CA28 ,  4K026CA37 ,  4K026CA38 ,  4K026CA39 ,  4K026CA41 ,  4K026DA03 ,  4K026DA11 ,  4K026EA08 ,  4K026EA13
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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