特許
J-GLOBAL ID：201603017126476397
含フッ素ポリマー微粒子
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
大上 寛
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-555537
公開番号（公開出願番号）：特表2016-505086
出願日： 2013年03月15日
公開日（公表日）： 2016年02月18日
要約：
本発明は含フッ素ポリマー微粒子を開示している。モノマーや光開始剤および含フッ素安定分散剤を反応窯の中に入れて、二酸化炭素ガスを通して反応窯中の空気を排除し、液体二酸化炭素を反応窯の中に注入し、反応窯の温度と圧力が安定されると、重合開始光源を反応窯の中に照射し、温度ー20〜30°C、圧力20〜70barの条件下で反応を行わせ、前記モノマーがモノマーと液体二酸化炭素の総体積に占める濃度は0.02〜2g/mlで、前記光開始剤や安定分散剤およびモノマーの重量比は(0.3〜10):(2〜20):100である。反応が終わった後、反応窯の温度を室温に戻せ、液体二酸化炭素で反応窯の底部に沈澱されたポリマーを洗浄し、残留モノマーを除去することによって、ポリマー微粒子が得られる。本発明の微粒子表面に被覆される含フッ素ポリマーはその表面エネルギーを低減することができ、微粒子が適時にコーティング層表面に転移されるようにさせる。含フッ素ポリマーにtert-アミン基を導入することによって、微粒子を架橋ネットワークにしっかりと結合させ、微粒子をコーティング層に緊密に結合させる。RAFT活性官能基を導入することによって、微粒子をしっかりとコーティング層に結合させ、固形化コーティング層の安定性を保証することができる。
請求項（抜粋）：
A.モノマーや光開始剤および含フッ素安定分散剤を反応窯の中に入れて、二酸化炭素ガスを通して反応窯中の空気を排除し、液体二酸化炭素を反応窯の中に注入し、反応窯の温度と圧力が安定されると、重合開始光源を反応窯の中に照射し、温度ー20〜30°C、圧力20〜70barの条件下で、重合開始反応を0.5〜5h行わせ、前記モノマーがモノマーと液体二酸化炭素の総体積に占める濃度は0.02〜2g/mlで、前記光開始剤や安定分散剤およびモノマーの重量比は(0.3〜10):(2〜20):100であり、
B.反応が終わった後、反応窯の温度が室温に戻るのを待ってから、液体二酸化炭素で反応窯の底部に沈澱されたポリマーを洗浄し、残留モノマーを除去することによって、前記ポリマー微粒子が得られる、
上記ステップによって調製されることを特徴とする含フッ素ポリマー微粒子。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (18件)：
4J011QA03
, 4J011RA03
, 4J011SA84
, 4J011TA07
, 4J011TA09
, 4J011UA01
, 4J011VA02
, 4J011WA02
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100BA31Q
, 4J100BB17P
, 4J100CA04
, 4J100DA01
, 4J100FA03
, 4J100FA04
, 4J100FA19
, 4J100JA15
