微細孔を有する基体の製造方法、及び基体

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (5件)：志賀正武 , 棚井澄雄 , 五十嵐光永 , 小室敏雄 , 清水雄一郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-556843
特許番号：特許第5906198号
出願日： 2012年02月01日
請求項（抜粋）：

【請求項1】微細孔を有する基体の製造方法であって、基体の内部において、ピコ秒オーダー以下のパルス時間幅を有する第一のレーザー光の焦点を走査して、少なくとも1つの第一改質部および第二改質部を形成し、前記基体の内部においてピコ秒オーダー以下のパルス時間幅を有する第二のレーザー光の焦点を走査して、複数個の第三改質部および第四改質部からなる、周期的な改質群を形成し、前記第一改質部および前記第二改質部と前記改質群とが重なるように、或いは、接するように形成された基体を得て、前記第一改質部および前記第三改質部をエッチングによって除去して前記微細孔を形成することを特徴とする微細孔を有する基体の製造方法。

IPC (3件)：