特許
J-GLOBAL ID:201603017927607574

マイクロプロジェクタ装置、磁気浮上ベース及びマイクロプロジェクタ設備

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 村山 靖彦 ,  実広 信哉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-100909
公開番号(公開出願番号):特開2016-051166
出願日: 2015年05月18日
公開日(公表日): 2016年04月11日
要約:
【課題】マイクロプロジェクタ装置と磁気浮上ベース及びマイクロプロジェクタ設備を提供する。【解決手段】前記マイクロプロジェクタ装置は、マイクロプロジェクタと主浮上磁性体とを備え、前記マイクロプロジェクタは前記主浮上磁性体に固定され、磁界において、前記マイクロプロジェクタを浮上させるように、前記主浮上磁性体の磁界中心の磁界方向は垂直方向になる。前記磁気浮上ベースは、ケースと、前記ケース内に位置する少なくとも三つのベース磁性体を備え、前記少なくとも三つのベース磁性体が形成した合成磁界の中心における磁界方向は垂直方向にあり、前記合成磁界の中心における磁界強度は各ベース磁性体近傍における前記合成磁界の磁界強度より小さい。マイクロプロジェクタを磁性体に固定することによって、磁界が有する環境においてマイクロプロジェクタが浮上できる。【選択図】図1a
請求項(抜粋):
マイクロプロジェクタと主浮上磁性体とを備え、 前記マイクロプロジェクタは、前記主浮上磁性体に固定され、磁界において、前記マイクロプロジェクタを浮上させるように、前記主浮上磁性体の磁界中心の磁界方向が垂直方向になるマイクロプロジェクタ装置。
IPC (2件):
G03B 21/14 ,  H01F 7/20
FI (2件):
G03B21/14 Z ,  H01F7/20 E
Fターム (6件):
2K203FB08 ,  2K203KA05 ,  2K203KA28 ,  2K203KA66 ,  2K203KA80 ,  2K203MA40
引用特許:
審査官引用 (8件)
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