特許
J-GLOBAL ID:201603018105887105
発熱体の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高山 宏志
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-214304
公開番号(公開出願番号):特開2014-067983
特許番号:特許第6013113号
出願日: 2012年09月27日
公開日(公表日): 2014年04月17日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板が載置または近接された状態とされ、導電材料からなり高周波の振動磁界による誘導電流が流れることにより発熱して基板を加熱する発熱体の製造方法であって、
非磁性材料からなる本体を準備する工程と、
前記本体に溝を設ける工程と、
前記溝に強磁性材料からなる磁性体部を挿入する工程と、
炭素繊維または炭素質フィラーからなる基材に、熱硬化樹脂としてフェノール樹脂を含浸して形成されたシート状接着剤を前記溝の入口部分に充填する工程と、
その後、焼成して前記シート状接着剤を炭化させることにより前記溝を封止する工程と
を含むことを特徴とする発熱体の製造方法。
IPC (2件):
H01L 21/31 ( 200 6.01)
, H05B 6/10 ( 200 6.01)
FI (2件):
H01L 21/31 B
, H05B 6/10 331
引用特許:
出願人引用 (5件)
-
特開平3-022523
-
熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-226590
出願人:東京エレクトロン株式会社
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エピタキシャル成長装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-168309
出願人:ソニー株式会社
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審査官引用 (5件)
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特開平3-022523
-
熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-226590
出願人:東京エレクトロン株式会社
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エピタキシャル成長装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-168309
出願人:ソニー株式会社
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