特許
J-GLOBAL ID：201603018305371936
循環水の磁気処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小谷 悦司
, 小谷 昌崇
, 村松 敏郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-192869
公開番号（公開出願番号）：特開2014-046292
特許番号：特許第5918086号
出願日： 2012年09月03日
公開日（公表日）： 2014年03月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 循環路を流れる循環水に防錆効果を与えるための磁気処理装置であって、
前記循環水を一時的に貯留するタンクであって当該タンク内に前記循環水を供給するための複数の給水口及び当該タンク内の水を排出するための排水口を有し、前記複数の給水口がそれぞれ別の循環路に接続されているものと、
前記タンクに貯留される水を磁気処理して当該水に防錆効果を与える磁気処理部と、を備え、
前記磁気処理部は、前記タンクに接続される吸水口及び還元口を両端に有する磁気処理用配管と、前記タンク内の水が前記吸水口から前記磁気処理用配管に入りかつこの磁気処理用配管を流れてから前記還元口を通じて前記タンク内に還元されるように当該水の流れを形成する磁気処理用ポンプと、前記磁気処理用配管の特定部位の周囲に配置され、当該磁気処理用配管内を流れる水に対して防錆効果を与えるような磁場を形成する超電導コイルと、を含み、
前記複数の給水口が前記タンクの頂部に設けられ、前記排水口が前記タンクの底部に設けられ、かつ、前記磁気処理用配管の吸水口及び還元口が前記複数の給水口の全ての位置と前記排水口の位置との間の位置であって前記タンクの頂部よりも前記タンクの底部に近い位置に設けられている、循環水の磁気処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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