特許
J-GLOBAL ID：201603018875630498

飽和ガス含有ナノバブル水の製造方法

発明者：
澤本 勲

澤本 勲 について


出願人/特許権者：
株式会社コアテクノロジー

株式会社コアテクノロジー について


代理人 (1件)： 鶴若 俊雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-021496
公開番号（公開出願番号）：特開2013-158676
特許番号：特許第5912603号
出願日： 2012年02月03日
公開日（公表日）： 2013年08月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 純水を脱気して脱気純水を生成する脱気工程と、 前記脱気純水を、純水を電気分解してなる電解槽の陽極室、及び/または陰極室に導き、ガス生成純水とするガス生成純水工程と、 前記ガス生成純水工程において電解槽の電流を制御する電流制御工程と、 前記ガス生成純水工程を経た前記ガス生成純水の圧力を減圧して飽和ガス含有ナノバブル水を生成するナノバブル発生工程と、 前記電流制御工程は、前記ガス生成純水中のガス圧力が正圧であり、また、少なくとも前記脱気純水の水圧または前記ガス生成純水の水圧よりも低いガス圧力になるように電解層の電流を制御することを特徴とする飽和ガス含有ナノバブル水の製造方法。
IPC (4件)：
C02F 1/68 ( 200 6.01) ,  B01F 3/04 ( 200 6.01) ,  C02F 1/20 ( 200 6.01) ,  C02F 1/46 ( 200 6.01)
FI (9件)：
C02F 1/68 520 B ,  B01F 3/04 Z ,  C02F 1/68 510 A ,  C02F 1/68 530 A ,  C02F 1/68 530 L ,  C02F 1/68 540 E ,  C02F 1/68 540 Z ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/46 Z
引用特許：
審査官引用 (4件)
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