特許
J-GLOBAL ID：201603019419450603
チタニア含有シリカガラス体の製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人サクラ国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-026521
公開番号（公開出願番号）：特開2013-199420
特許番号：特許第6020234号
出願日： 2013年02月14日
公開日（公表日）： 2013年10月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 フッ素がドープされたチタニア含有シリカガラス体を製造する方法であって、
(a)線熱膨張係数(以下、CTEという。)が0ppb/°Cとなる温度(以下、COTと示す。)の目標値と、CTEが0±5ppb/°Cを満たす温度範囲であるゼロ膨張温度範囲(以下、ΔTと示す。)の目標値から、15〜60°Cの範囲から選ばれる所定の温度Tx°CにおけるCTE(以下、CTEatTx°Cと示す。)と、前記Tx°CにおけるCTEの傾き(以下、CTEslopeと示す。)を決定し、決定したCTEatTx°CとCTEslopeになるように、下記推算式(1)および(2)を用いてチタニア濃度、フッ素濃度および仮想温度を設定する工程と、
CTEatTx°C[ppb/°C]=a[TiO2]+b[F]+c[Tf]+d............(1)
CTEslope[ppb/°C2]=A[TiO2]+B[F]+C[Tf]+D............(2)
(前記推算式(1)および(2)において、[TiO2]はチタニア濃度(質量%)、[F]はフッ素濃度(質量ppm)、[Tf]は仮想温度(°C)である。また、係数であるa、b、c、d、A、B、CおよびDは、前記[TiO2]、前記[F]および前記[Tf]が既知のガラス試料のCTE測定値を用いて、最小二乗法による回帰計算により算出される値である。)
(b)シリカ前駆体とチタニア前駆体を含むガラス形成原料を火炎加水分解して得られるガラス微粒子を基材に堆積、成長して、多孔質ガラス体を形成する工程と、
(c)前記多孔質ガラス体にフッ素をドープし、フッ素を含有する多孔質ガラス体を得る工程と、
(d)前記フッ素を含有する多孔質ガラス体を緻密化処理して、緻密体を得る工程と、
(e)多孔質ガラス体および/または緻密体のチタニア濃度を測定する工程と、さらに任意に仮想温度を再設定する工程を含む工程であり、前記(d)工程後および/または前記(c)工程の前に少なくとも1回行う工程と、
(f)前記緻密体のフッ素濃度を測定する工程と、
(g)前記仮想温度を決定する工程であり、前記1回または2回以上の(e)チタニア濃度測定工程のうちの最後の測定工程で得られたチタニア濃度の測定値と、前記(f)フッ素濃度測定工程で得られたフッ素濃度の測定値を用い、前記推算式により推算されるCOTとΔTがいずれも目標値から許容範囲内である場合には、(g)工程より前で最も近い工程で設定された仮想温度を決定値とし、前記推算式により推算されるCOTとΔTの少なくとも一方が目標値から許容範囲外である場合には、前記推算式により仮想温度を再設定して再設定値を決定値とする工程と、
(h)前記緻密体を透明ガラス化し、透明ガラス体を得る工程と、
(i)前記透明ガラス体を、前記(g)工程で決定された仮想温度になるようにアニールする工程
を備えることを特徴とするチタニア含有シリカガラス体の製造方法。
IPC (4件)：
C03B 20/00 ( 200 6.01)
, C03C 3/06 ( 200 6.01)
, C03C 3/112 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
C03B 20/00 F
, C03B 20/00 E
, C03C 3/06
, C03C 3/112
, H01L 21/30 531 M
, H01L 21/30 531 A
