特許
J-GLOBAL ID:200903048071153469

シリカ・チタニアガラス及びその製造方法、線膨張係数測定方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 石原 詔二 ,  石原 進介
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-031946
公開番号(公開出願番号):特開2009-190917
出願日: 2008年02月13日
公開日(公表日): 2009年08月27日
要約:
【課題】CTEが十分に制御されたシリカ・チタニアガラスを提供することを目的とする。また、本発明は、シリカ・チタニアガラスのCTEを、試料寸法を限定することなく正確に求める方法を提供することを目的とする。また、本発明は、シリカ・チタニアガラスのCTEを後処理によって制御する方法を提供する。【解決手段】漏洩弾性表面波速度VLSAWと仮想温度Tfを本発明に係る式(1)に代入して得られる線膨張係数CTEが22°Cにおいて-50ppb/K以上50ppb/K以下であり、かつ、仮想温度Tfの範囲が700(°C)≦Tf≦1300(°C)であるようにしたシリカ・チタニアガラスである。【選択図】図3
請求項(抜粋):
漏洩弾性表面波速度VLSAWと仮想温度Tfを以下の式(1)に代入して得られる線膨張係数CTEが22°Cにおいて-50ppb/K以上50ppb/K以下であり、かつ、仮想温度Tfの範囲が700(°C)≦Tf≦1300(°C)であることを特徴とするシリカ・チタニアガラス。 CTE=4.436×(VLSAW-3308.95)+(1068-Tf)/2.84 ・・・(1) (但し、前記式(1)において、CTEは線膨張係数(ppb/K)、VLSAWは漏洩弾性表面波速度(m/s)、Tfは仮想温度(°C)である。)
IPC (3件):
C03C 3/06 ,  G02B 1/00 ,  H01L 21/027
FI (3件):
C03C3/06 ,  G02B1/00 ,  H01L21/30 531A
Fターム (57件):
4G062AA04 ,  4G062BB02 ,  4G062DA08 ,  4G062DB01 ,  4G062DC01 ,  4G062DD01 ,  4G062DE01 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EA10 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062ED01 ,  4G062EE01 ,  4G062EF01 ,  4G062EG01 ,  4G062FA01 ,  4G062FB03 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GA10 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM02 ,  4G062NN30 ,  5F046GB00 ,  5F046GB02
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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