特許
J-GLOBAL ID：201603019497794840
インクジェット記録装置およびインクジェット記録方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人 谷・阿部特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-018351
公開番号（公開出願番号）：特開2013-154590
特許番号：特許第5930740号
出願日： 2012年01月31日
公開日（公表日）： 2013年08月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】複数の記録素子が副走査方向に配列して成る記録素子列を前記副走査方向と交差する主走査方向に移動させながら前記記録素子列によって記録媒体へインクを吐出する記録走査を複数回行って画像の記録を行い、それぞれが前記副走査方向に並ぶ複数の画素で構成された前記主走査方向に並ぶ複数のカラムを、前記記録走査によって順番に記録するインクジェット記録装置であって、
前記記録素子列を前記副走査方向にP(Pは3以上の整数)分割して得られる1〜Pブロックに対し、ドットの記録を許容する記録許容画素とドットの記録を許容しない非記録許容画素とを定めているマスクパターンを格納する格納手段と、
前記記録素子列を前記副走査方向と交差する主走査方向に移動させながら、前記格納手段に格納された前記マスクパターンに従って、連続するM(Mは2 ≦ M <Pを満たすPの約数ではない整数)カラムのうちの1つのカラムを記録する前記記録走査をMカラムのそれぞれについて順番に行う記録走査手段と、
前記記録走査の間に前記ブロックの1つに相当する距離だけ記録媒体を前記副走査方向に搬送する搬送手段と
を備え、
1≦s≦Mを満たすいずれの整数sについても、前記1〜Pのブロックに対応するマスクパターンのうち、s+N×M≦Pを満たす全ての0以上の整数Nに対応する(s+N×M)ブロックのマスクパターンの組み合わせは、前記記録許容画素の配置が互いに補完関係を有していることを特徴とするインクジェット記録装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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