特許
J-GLOBAL ID：201603019632751579

蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法

発明者：
宮寺 仁子

宮寺 仁子 について

, 
二連木 隆佳

二連木 隆佳 について

, 
武田 利彦

武田 利彦 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (2件)： 特許業務法人 インテクト国際特許事務所 ,  石橋 良規
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-018161
公開番号（公開出願番号）：特開2016-145420
特許番号：特許第5994952号
出願日： 2016年02月02日
公開日（公表日）： 2016年08月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 スリットが設けられた金属マスクと樹脂板とが積層された樹脂板付き金属マスクを準備する工程と、 前記金属マスク側からレーザーを照射し、前記樹脂板に蒸着作製するパターンに対応した開口部を形成する工程と、を含み、 前記開口部を形成する工程においては、 前記開口部に対応する開口領域と、 当該開口領域の周囲に位置し、照射されるレーザーのエネルギーを減衰させる減衰領域と、が設けられたレーザー用マスクを用いることで、 前記開口領域を通過するレーザーにより、樹脂板に対して蒸着作製するパターンに対応した開口部を形成するとともに、前記減衰領域を通過するレーザーにより、前記樹脂板の開口部の周囲に薄肉部を形成する、 ことを特徴とする蒸着マスクの製造方法。
IPC (4件)：
C23C 14/04 ( 200 6.01) ,  C23C 14/24 ( 200 6.01) ,  H05B 33/10 ( 200 6.01) ,  H01L 51/50 ( 200 6.01)
FI (4件)：
C23C 14/04 A ,  C23C 14/24 G ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A
引用特許：
出願人引用 (4件)
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