特許
J-GLOBAL ID：201603020104941470

基板ケース洗浄装置

発明者：
坂下 俊也

坂下 俊也 について


出願人/特許権者：
ヒューグルエレクトロニクス株式会社

ヒューグルエレクトロニクス株式会社 について


代理人 (3件)： 樋口 正樹 ,  小林 十四雄 ,  岡村 信一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-207052
公開番号（公開出願番号）：特開2014-063823
特許番号：特許第5959381号
出願日： 2012年09月20日
公開日（公表日）： 2014年04月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ベース及びベースを覆うシェルを備え内部に基板を収容する基板ケースを、上記基板が空の状態で洗浄する基板ケース洗浄装置であって、クリーンな空間を形成するブースを備え、該ブース内に、上記基板ケースのベース及びシェルの各部品を分離した状態で収容して洗浄する洗浄槽を備え、上記基板ケースの各部品を洗浄槽に対して搬送する搬送機構を備えた基板ケース洗浄装置において、 上記洗浄槽を、上解放の開口を有した槽本体と、該槽本体の開口を上記基板ケースの各部品を搬送する際に開にし、該各部品の洗浄時に閉にする開閉可能な蓋とを備えて構成するとともに、 該洗浄槽の槽本体の底部に垂直方向の軸線を中心に回転可能に設けられた回転板と、該回転板を回転駆動する回転駆動部と、上記回転板に立設され所定の高さ位置で上記ベースの外縁の一部を支承する複数のベース支承杆と、上記回転板に立設され上記ベース支承杆とは異なる所定の高さ位置で上記シェルの外縁の一部を支承する複数のシェル支承杆とを備えて構成したことを特徴とする基板ケース洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  H01L 21/677 ( 200 6.01)
FI (2件)：
H01L 21/304 648 E ,  H01L 21/68 A
引用特許：
出願人引用 (4件)
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