特許
J-GLOBAL ID：201603020334493263
環境の影響の変動を伴う基準スペクトルの構築
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
園田 吉隆
, 小林 義教
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-506519
特許番号：特許第6017538号
出願日： 2012年04月18日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 研磨を制御する方法であって、
基準スペクトルのライブラリを生成することであって、
少なくとも1つの基準スペクトルを記憶することと、
基板表面の前の光路中の構成要素の変動によってもたらされるスペクトルに対するひずみを表す、複数の異なる透過率曲線を記憶することと、
前記複数の異なる透過率曲線のうちの少なくとも2つの透過率曲線に対して、前記基準スペクトルおよび前記透過率曲線から修正された基準スペクトルを計算して、複数の修正された基準スペクトルを生成することとを含む、生成することと、
基板を研磨することと、
前記基板からの光のスペクトルのシーケンスを研磨中に測定することと、
前記スペクトルのシーケンスの測定スペクトルごとに、前記複数の修正された基準スペクトルから最も良く一致する基準スペクトルを見いだして、最も良く一致する基準スペクトルのシーケンスを生成することと、
前記最も良く一致する基準スペクトルのシーケンスに基づいて研磨終点または研磨速度調整の少なくとも一方を決定することと、
を含む方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ( 200 6.01)
, B24B 37/013 ( 201 2.01)
H01L 21/304 622 S
, B24B 37/04 K
