特許

J-GLOBAL ID：201603020427663495

リソグラフィ装置のための基板サポート及びリソグラフィ装置

発明者： アルルマーク,エリック,ヨハン ,  コエヴォエツ,エイドリアヌス,ヘンドリック ,  ラファーレ,レイモンド,ウィルヘルムス,ルイス ,  テン ケイト,ニコラース ,  ライテン,カルロ,コルネリス,マリア ,  ニーンフイス,ハン-クワン
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-546922
公開番号（公開出願番号）：特表2016-507763
出願日： 2013年11月26日
公開日（公表日）： 2016年03月10日
要約：

EUV放射ビームを基板のターゲット部分上に投影するタイプの装置のための基板サポートが開示される。基板サポートは、基板を保持するように構築された基板テーブルと、基板テーブルを支持するためのサポートブロックと、基板テーブルの周りに配置されたカバープレートとを備える。カバープレートの上面及び基板テーブル上に取り付けられた基板の上面全てが実質的に同じ高さである。少なくとも1つのセンサユニットが基板サポート上に配置され、その上面もカバープレート及び基板の上面と同じ高さである。このような基板サポートを含むEUVリソグラフィ装置も開示される。【選択図】図6a

請求項（抜粋）：

EUV範囲内又はそれより小さい波長を有する放射ビームを基板のターゲット部分上に投影するタイプの装置のための基板サポートであって、前記基板サポートは、 基板を保持するように構築された基板テーブルと、 前記基板テーブルを支持するように構成されたサポートブロックと、 少なくとも1つのセンサユニットと、 前記基板テーブル及び前記少なくとも1つのセンサユニットの周りに配置されたカバープレートであって、前記基板テーブルに対するガス流に対して増加した抵抗をもたらすように配置及び構成されたカバープレートと、を備える基板サポート。

IPC (2件)：

G03F 7/20 ,  H01L 21/683

FI (3件)：

G03F7/20 521 ,  G03F7/20 503 ,  H01L21/68 N

Fターム (46件)：

2H197AA09 ,  2H197AA10 ,  2H197CA10 ,  2H197CB18 ,  2H197CC05 ,  2H197CD12 ,  2H197DB16 ,  2H197DB17 ,  2H197DB24 ,  2H197DC14 ,  2H197FA01 ,  2H197GA01 ,  2H197GA05 ,  2H197GA09 ,  2H197GA12 ,  2H197GA17 ,  2H197GA20 ,  2H197GA21 ,  2H197HA03 ,  2H197HA05 ,  2H197HA10 ,  5F131AA02 ,  5F131BA13 ,  5F131CA02 ,  5F131CA04 ,  5F131CA12 ,  5F131DA09 ,  5F131EA01 ,  5F131EA03 ,  5F131EA22 ,  5F131EB01 ,  5F131EB11 ,  5F131EB31 ,  5F131EB54 ,  5F131EB72 ,  5F131FA17 ,  5F131FA37 ,  5F131JA12 ,  5F131JA14 ,  5F131JA26 ,  5F131KA16 ,  5F131KA34 ,  5F131KA40 ,  5F131KB07 ,  5F131KB12 ,  5F131KB53

引用特許：

審査官引用 (8件)

• リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-048439   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-315669   出願人：キヤノン株式会社
• 露光装置及びデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-088934   出願人：キヤノン株式会社
• 特開昭57-169244
  
• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-104422   出願人：キヤノン株式会社
• 特開昭57-169244
  
• 特開昭57-169244
  
• 露光装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-137473   出願人：キヤノン株式会社