特許
J-GLOBAL ID：201603020544274378
結像パターンシミュレーションシステム、結像パターンシミュレーション方法、結像パターンシミュレーションプログラム及びこのプログラムを記録した記録媒体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉田 芳春
, 堀越 真弓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-217379
公開番号（公開出願番号）：特開2016-086060
出願日： 2014年10月24日
公開日（公表日）： 2016年05月19日
要約：
【課題】コンピュータのメモリを大量消費することなく、マスクパターンの一部の形状を変更した場合にも極めて短い時間でシミュレーションできる結像パターンシミュレーションシステム、結像パターンシミュレーション方法を提供する。【解決手段】結像パターンシミュレーションシステムは、マスクのマスクパターンを複数の小パターンに分割する分割手段と、各小パターンの透過光が形成する結像パターンを計算しライブラリを作成して保存するライブラリ作成保存手段と、ライブラリに基づいて小パターンに対応する結像パターンを貼り合わせることにより、第1の結像パターンを作成する第1の結像パターン作成手段と、第1の結像パターンにおける接合面付近を境界要素に分割し、積分方程式を解いて綴合波を求める綴合波計算手段と、求めた綴合波と第1の結像パターンとからマスクによる第2の結像パターンを作成する第2の結像パターン作成手段とを備えている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
マスクの透過光が形成する結像パターンをシミュレーションする結像パターンシミュレーションシステムであって、前記マスクのマスクパターンを複数の小パターンに分割する分割手段と、該分割された各小パターンの透過光が形成する結像パターンを計算することによりライブラリを作成して保存するライブラリ作成保存手段と、該作成保存されているライブラリに基づいて、前記小パターンに対応する前記結像パターンを貼り合わせることにより、前記マスクの第1の結像パターンを作成する第1の結像パターン作成手段と、該作成した第1の結像パターンにおける接合面付近を境界要素に分割し、積分方程式を解いて綴合波を求める綴合波計算手段と、該求めた綴合波と前記第1の結像パターンとから前記マスクによる第2の結像パターンを作成する第2の結像パターン作成手段とを備えていることを特徴とする結像パターンシミュレーションシステム。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 1/36
, G02B 19/00
H01L21/30 502Z
, G03F1/36
, G02B19/00
, H01L21/30 515D
2H052BA02
, 2H052BA07
, 2H052BA12
, 2H095BA01
, 2H095BA02
, 2H095BB02
, 2H095BB36
, 2H195BA01
, 2H195BA02
, 2H195BB02
, 2H195BB36
, 5F146AA25
, 5F146CB45
, 5F146DA13
, 5F146DA30
, 5F146DD03
