特許
J-GLOBAL ID：201603021006702200
マスク成膜装置及びマスク成膜方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
特許業務法人 英知国際特許事務所
, 小橋 立昌
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-010133
公開番号（公開出願番号）：特開2013-147715
特許番号：特許第5904577号
出願日： 2012年01月20日
公開日（公表日）： 2013年08月01日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板の被成膜面にマスクを介して成膜パターンを形成するマスク成膜装置であって、
前記基板を前記被成膜面に沿った特定方向に向けて移動させる基板移動部と、
前記基板移動部の移動経路に前記マスクが対面するように当該マスクを保持するマスク保持部と、
前記マスク保持部に保持された前記マスクの傾きと前記基板移動部の移動経路に対する前記マスクの高さを調整するマスク調整部と、
前記マスクの保持位置より基板移動方向上流側に配置され、前記基板移動部によって移動される前記基板の傾きを検知する基板傾き検知部と、
前記マスクの上方に配置され、前記基板と前記マスクとの間隔を検知する間隔検知部と、
前記基板傾き検知部と前記間隔検知部の一方又は両方の検知出力に基づいて前記マスク調整部を制御する制御部とを備え、
前記制御部は、
前記基板の移動方向先端が前記マスクの上方に到達するまでの間、前記基板傾き検知部の出力に基づいて、前記移動経路から離れた待避位置で前記マスクの傾きを前記基板の傾きに合わせるように制御し、
前記基板の移動方向先端が前記マスクの上方に到達した後は、前記間隔検知部の出力に基づいて、前記マスクを前記基板の被成膜面に設定距離だけ近接させるように前記マスクの高さを制御することを特徴とするマスク成膜装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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