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J-GLOBAL ID：201702210173349377   整理番号：17A1627580

ナノスケール島状SiN-中間層を持つ非極性a面GaNエピ層の結晶品質の異方性と歪の低減【Powered by NICT】

Reduction in crystalline quality anisotropy and strain for non-polar a-plane GaN epi-layers with nano-scale island-like SiN interlayer

著者 (9件)： Zhao Jianguo (Advanced Photonics Center, Southeast University, Nanjing 210096, Jiangsu, China) ,  Zhang Xiong (Advanced Photonics Center, Southeast University, Nanjing 210096, Jiangsu, China) ,  Wu Zili (Advanced Photonics Center, Southeast University, Nanjing 210096, Jiangsu, China) ,  Dai Qian (Advanced Photonics Center, Southeast University, Nanjing 210096, Jiangsu, China) ,  Wang Nan (Advanced Photonics Center, Southeast University, Nanjing 210096, Jiangsu, China) ,  He Jiaqi (Advanced Photonics Center, Southeast University, Nanjing 210096, Jiangsu, China) ,  Chen Shuai (Laboratory of Optoelectronic Materials & Detection Technology, Guangxi Key Laboratory for the Relativistic Astrophysics, College of Physics Science & Technology, Guangxi University, Nanning, 530004, Guangxi, China) ,  Feng Zhe Chuan (Laboratory of Optoelectronic Materials & Detection Technology, Guangxi Key Laboratory for the Relativistic Astrophysics, College of Physics Science & Technology, Guangxi University, Nanning, 530004, Guangxi, China) ,  Cui Yiping (Advanced Photonics Center, Southeast University, Nanjing 210096, Jiangsu, China)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 729  ページ： 992-996  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 結晶品質異方性の減少とナノスケール島状SiN_中間層を持つ非極性a面GaNエピ層の面内歪を走査電子顕微鏡,高分解能X線回折測定,Raman分光法を用いて広範囲に研究した。両方のc軸とmに対するX線ロッキング曲線の半値全幅が1108~780arcsecと2077~806arcsecからそれぞれ減少したのでSiN_層間したa面GaNエピ層の結晶品質異方性を抑制するために強力であることを実証した。Raman測定の結果は,SiN_中間層は,面内歪を補償するに重要な役割を果たすことを明らかにした。事実,m方向に沿った面内圧縮歪とc方向に沿って引張歪はSiN_中間層の挿入による約62%と78%減少したことが分かった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 走査電子顕微鏡 ,  *非極性 ,  *異方性 ,  ロッキングカーブ ,  *窒化ガリウム ,  FWHM ,  Raman分光法
準シソーラス用語： 引張歪 ,  圧縮歪 ,  高分解能X線回折 ,  面内歪 ,  *結晶品質 ,  *エピタキシャル層 ,  *中間層 ,  *ナノスケール , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 非極性a面GaN ,  ナノスケール島状SiN-中間層 ,  結晶品質異方性還元 ,  面内歪補償

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (9件)： ナノスケール ,  SiN ,  中間層 ,  非極性 ,  GaN ,  エピ層 ,  結晶品質 ,  異方性 ,  歪