文献

J-GLOBAL ID：201702210337686406   整理番号：17A0618994

レーザー干渉顕微鏡による銅電析界面付近のCu²⁺濃度分布のその場観察

著者 (4件)： 齊藤貴樹 (北大 工) ,  西川慶 (物質・材料研究機構) ,  松島永佳 (北大 大学院) ,  上田幹人 (北大 大学院)
資料名： 電気化学会大会講演要旨集(CD-ROM)
巻： 84th  ページ： ROMBUNNO.1J26  発行年： 2017年03月17日 
JST資料番号： Y0048B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *銅めっき ,  電気めっき ,  *電着 ,  金属イオン ,  銅化合物 ,  *固液界面 ,  樹枝状結晶 ,  *その場観察 ,  濃度分布 ,  *干渉顕微鏡 ,  レーザ照射 ,  拡散層 ,  拡散律速 ,  電解 ,  定電流電源 ,  位相 ,  位相差 ,  定電流電解 ,  銅イオン
準シソーラス用語： デンドライト成長 ,  電解めっき ,  電極界面 ,  電極表面 ,  電析 ,  銅イオン(2+)

分類 (3件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  光学顕微鏡,望遠鏡  (QF05050R) ,  固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (7件)： レーザー ,  干渉顕微鏡 ,  銅 ,  電析 ,  界面 ,  濃度分布 ,  その場観察