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J-GLOBAL ID：201702211296318042   整理番号：17A1632855

レーザ脱離とレーザpositionization飛行時間型質量分析法によるナノメータ薄層の深さプロファイリング【Powered by NICT】

Depth profiling of nanometer thin layers by laser desorption and laser postionization time-of-flight mass spectrometry

著者 (5件)： Yin Zhibin (Department of Chemistry, The MOE Key Lab of Spectrochemical Analysis & Instrumentation, College of Chemistry and Chemical Engineering, Xiamen University, Xiamen, Fujian 361005, China. [e-mail]) ,  Cheng Xiaoling ,  Liu Rong ,  Hang Wei ,  Huang Benli
資料名： Journal of Analytical Atomic Spectrometry  (Journal of Analytical Atomic Spectrometry)
巻： 32  号： 10  ページ： 1878-1884  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0770C  ISSN： 0267-9477  CODEN： JASPE2  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 開発し,新たに構築されたレーザ脱離とレーザpositionization飛行時間型質量分析計(LD LPI TOFMS)を用いた極薄層解析されてきた深さプロファイリング法。この技術は種々の厚さをもつNi被覆試料の一連のパルス毎の深さにおける~0.026nmまで非常に低い平均アブレーション速度の優位性を達成した。高コストSIMS装置と比較して,ナノメータ薄層分析のための代替戦略を提供する。LD LPI源とTOFMSの統合は,各層と基板の成分だけでなく,スパッタリングターゲットの微量不純物の多元素情報を提供する。コーティングの品質評価とプロセス制御のためのナノメートル薄層の包括的キャラクタリゼーションを行うことに寄与している。さらに,薄層の厚さ測定のためのこの方法の性能を実証した。研究と結果は,ここでナノメータ薄層の深さプロファイリングにおける利用可能な技術の多用途ツールとしてのLD LPI TOFMSの可能性を示し,レーザベース技術のための超薄層解析におけるギャップを埋めた。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： ニッケル ,  *レーザ ,  キャラクタリゼーション ,  被覆 ,  プロセス制御 ,  パルス ,  厚み測定 ,  *薄膜 ,  *脱着 ,  *深さプロフィル ,  不純物
準シソーラス用語： 品質評価 ,  飛行時間型質量分析計 ,  *ナノメータ ,  *TOF-MS , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 無機物質中の元素の物理分析  (CC03022H) ,  質量分析  (CC03013N)

タイトルに関連する用語 (6件)： レーザ ,  脱離 ,  飛行時間型質量分析法 ,  ナノメータ ,  薄層 ,  深さプロファイリング