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J-GLOBAL ID：201702211970490892   整理番号：17A1455188

Cu(001)上のPb及びBiの共吸着による1D鎖形成:低エネルギー電子回折を用いた決定【Powered by NICT】

1D chain formation by coadsorption of Pb and Bi on Cu(001): Determination using low energy electron diffraction

著者 (4件)： Kabiruzzaman Md (Interdisciplinary Graduate School of Engineering Science, Kyushu University, Kasugashi, Kasugakoen, 6-1, Fukuoka 8168580, Japan) ,  Ahmed Rezwan (Interdisciplinary Graduate School of Engineering Science, Kyushu University, Kasugashi, Kasugakoen, 6-1, Fukuoka 8168580, Japan) ,  Nakagawa Takeshi (Interdisciplinary Graduate School of Engineering Science, Kyushu University, Kasugashi, Kasugakoen, 6-1, Fukuoka 8168580, Japan) ,  Mizuno Seigi (Interdisciplinary Graduate School of Engineering Science, Kyushu University, Kasugashi, Kasugakoen, 6-1, Fukuoka 8168580, Japan)
資料名： Surface Science  (Surface Science)
巻： 664  ページ： 70-75  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0129B  ISSN： 0039-6028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 室温でCu(001)上の二種の重金属,PbとBiの共吸着を低エネルギー電子回折(LEED)を用いて研究した。c(4 × 4),c(2 × 2),c(92 × 2)相は,種々の被覆率で得られた。ここで,C(4 × 4)相の最適構造を決定した。この構造は[110]方向に沿ってCu列間のPb及びBi原子の1d置換鎖配列として記述できる。二次元(2D)表面の単位細胞は1本のBi原子,二Pb原子と中心の一空格子点をもつ四Cu原子から構成されている。最適構造パラメータは,Bi原子は4部分のくぼみ部位に位置し,Pb原子は空孔への4部分のくぼみ部位から0.78Åだけ変位した横方向であることを示した。Cu(001)上のPb及びBiの堆積によりc(4 × 4)構造の形成の理由は,同じ基板上のPbの個々の吸着により形成された類似した構造と比較して論じた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *共吸着 ,  二次元 ,  *低速電子回折 ,  構造パラメータ ,  *鉛 ,  重金属 ,  圧痕 ,  *ビスマス ,  被覆率 ,  表面構造

著者キーワード (12件)： 共吸着 ,  重金属 ,  Pb ,  Bi ,  Cu(001) ,  低エネルギー電子回折 ,  1D配列 ,  表面構造 ,  Morphology ,  Roughness ,  Topology ,  表面合金

分類 (2件)： 金属の表面構造  (BK15020P) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

タイトルに関連する用語 (6件)： Cu ,  Pb ,  Bi ,  共吸着 ,  1D ,  低エネルギー電子回折