ナノ結晶酸化ハフニウム薄膜の構造特性に及ぼすN<sub>2</sub>中ポストデポジション焼鈍しの影響

PANDEY Shilpi; PANDEY Shilpi; KOTHARI Prateek; VERMA Seema; RANGRA K. J.

文献

J-GLOBAL ID：201702212683049224 整理番号：17A0335437

ナノ結晶酸化ハフニウム薄膜の構造特性に及ぼすN₂中ポストデポジション焼鈍しの影響

Impact of post deposition annealing in N₂ ambient on structural properties of nanocrystalline hafnium oxide thin film

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資料名：
巻： 28 号： 1 ページ： 760-767 発行年： 2017年01月
JST資料番号： W0003A ISSN： 0957-4522 CODEN： JMTSAS 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

スパッタ法により酸化ハフニウム(HfO)薄膜(100nm)を蒸着し,更に窒素雰囲気中で400~1000°Cに亘って200°Cおきに10分間焼鈍し,XRD,FTIR,EDX,AFM及びレーザ偏光解析により試料を特性化した。HfO薄膜は高い指向性を有する単斜晶構造を有し,600°C焼鈍薄膜のXRD結果は国際回折データによく整合した。焼鈍温度を上げると結晶サイズは6.12から13.2nmになり,ナノ粒子サイズも増大した。高い焼鈍温度ではクラスタが形成されることなどがわかった。

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酸化物薄膜

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ナノ結晶酸化ハフニウム薄膜の構造特性に及ぼすN2中ポストデポジション焼鈍しの影響

ナノ結晶酸化ハフニウム薄膜の構造特性に及ぼすN₂中ポストデポジション焼鈍しの影響