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J-GLOBAL ID：201702213684097938   整理番号：17A0641952

NAP-XPSおよび質量分析を用いたIr(111)面でのCOによるNO還元のオペランド観察: 近現実的条件下でのN₂生成への優勢反応経路

Operando Observation of NO Reduction by CO on Ir(111) Surface Using NAP-XPS and Mass Spectrometry: Dominant Reaction Pathway to N₂ Formation under Near Realistic Conditions

著者 (8件)： UEDA Kohei (Keio Univ., Yokohama, JPN) ,  YOSHIDA Masaaki (Keio Univ., Yokohama, JPN) ,  ISEGAWA Kazuhisa (Keio Univ., Yokohama, JPN) ,  SHIRAHATA Naoki (Keio Univ., Yokohama, JPN) ,  AMEMIYA Kenta (High Energy Accelerator Res. Organization, Tsukuba, JPN) ,  MASE Kazuhiko (High Energy Accelerator Res. Organization, Tsukuba, JPN) ,  MUN Bongjin Simon (Gwangju Inst. of Sci. and Technol., Gwangju, KOR) ,  KONDOH Hiroshi (Keio Univ., Yokohama, JPN)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 121  号： 3  ページ： 1763-1769  発行年： 2017年01月26日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 近大気圧(NAP)X線光電子分光と質量分析の組み合わせ適用によって,種々のCO圧力(10~250mTorr)下での還元触媒Ir(111)面でのCOによるNO還元を広い温度領域(室温~500°C)で調べた。そして,1)頂上サイト吸着NOと吸着原子状Nの反応,および2)頂上サイト吸着NOと結合性脱着原子状Nの反応に基づくCO圧力/加熱温度依存の2種のN₂生成反応経路を観測した。近大気圧下では,後者のN₂生成反応経路が優勢であった。

シソーラス用語： X線光電子分光法 ,  質量分析 ,  温度依存性 ,  圧力効果 ,  *一酸化炭素 ,  *一酸化窒素 ,  *接触還元 ,  *窒素 ,  *反応経路 ,  *遷移金属触媒 ,  気圧 ,  触媒 ,  *排ガス処理 ,  *イリジウム触媒 ,  還元触媒 ,  *廃棄物処理
準シソーラス用語： 大気圧

分類 (2件)： 排ガス処理  (PB02060U) ,  貴金属触媒  (CB06122I)

タイトルに関連する用語 (11件)： NAP ,  XPS ,  質量分析 ,  Ir ,  CO ,  NO ,  還元 ,  オペランド ,  観察 ,  N2 ,  反応経路