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J-GLOBAL ID:201702214423462954   整理番号:17A0475063

InGaAsのためのN型ドーピング戦略【Powered by NICT】

N-type Doping Strategies for InGaAs
著者 (8件):
資料名:
巻: 62  ページ: 171-179  発行年: 2017年 
JST資料番号: W1055A  ISSN: 1369-8001  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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III-V化合物半導体の使用,Siおよび他のより従来の半導体材料に比較して優れた電子移動度によるCMOS論理素子におけるチャンネル材料としてInGaAsを含むに置かれている重要な研究努力。チャネル材料としてInGaAsの工業的採用を妨げる主な要因の一つは,ソースとドレイン接触抵抗の最小化を含んでいる。接触抵抗の最小化への挑戦を理解するために,本研究は,活性化の最高レベルは可能な達成におけるドーパントとしてのシリコンの使用と各手法の有効性を含むn型InGaAsの試みられているいくつかのドーピング手法の有効性を概説した。以前と最近報告されたドーパント拡散挙動を含めて議論する。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
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固体デバイス計測・試験・信頼性  ,  固体デバイス製造技術一般 
タイトルに関連する用語 (3件):
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