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J-GLOBAL ID：201702215478833888   整理番号：17A1090415

アナモルフィックリソグラフィーシステムの画像に基づく瞳孔面特性化

Image-Based Pupil Plane Characterization for Anamorphic Lithography Systems

著者 (2件)： LEVINSON Zac (Rochester Inst. Technol., NY) ,  SMITH Bruce W. (Rochester Inst. Technol., NY)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10143  ページ： 101431W.1-101431W.12  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 次世代の高開口数のEUVリソグラフィーシステムを実現するには,アナモルフィック光学系を使用する必要がある。周知のZernike多項式は,アナモルフィック光学系の16個の主要な収差を記述しない。本研究では,主要な収差を記述する新しい基底を提案し,新しい基底の性質及びリソグラフィープロセスに及ぼす影響を同形収差との類似性を通して調べた。また,提案した基底を既存のリソグラフィーシミュレータで使用するための応用プログラムを開発した。新しい基底はWyant Zernike方式に似た方式を用いて規則化できる。収差計測技術を新しい基底に採用する方法を示した。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  開口数 ,  基底 ,  Zernike多項式 ,  *光学系 ,  *収差 ,  キャラクタリゼーション ,  瞳孔
準シソーラス用語： *EUVリソグラフィー ,  *アナモルフィック光学系 ,  高開口数 ,  *収差測定 ,  瞳孔特性化

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： 瞳孔 ,  特性化