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J-GLOBAL ID:201702216079834060   整理番号:17A0399043

高性能スーパーキャパシタ応用のための六方晶系WO_3薄膜の温度に依存した表面形態変化【Powered by NICT】

Temperature dependent surface morphological modifications of hexagonal WO3 thin films for high performance supercapacitor application
著者 (6件):
資料名:
巻: 224  ページ: 397-404  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0535B  ISSN: 0013-4686  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本論文では,温度に依存する表面形態学的修飾と六方晶WO_3(h WO_3)薄膜の電気化学的性能に及ぼすその後の影響を研究した。ナノ構造H WO_3膜を簡単な水熱法を用いて炭素布基板上に合成した。は413%,433%および453Kの温度で調製したH WO_3薄膜は,ナノ粒状結晶のような,ナノプレート状とナノロッド状表面形態を示すことが観察された。X線回折研究は,c及びa軸に沿ってH WO_3の優先成長方向を明らかにし,それぞれ(001)と(200)面に沿った顕著な配向を明らかにした。453Kで調製したH WO_3膜は良好な表面積,細孔容積及び均一な細孔径分布を示した。電気化学測定は,H WO_3薄膜の694fg~( 1),25Wh kg~のエネルギー密度( 1)と長期サイクル性能(2,000サイクル後に87%の容量保持)の高い比静電容量を示した。結果はh WO_3ナノロッドは,高性能エネルギー貯蔵デバイスのための有望な電極材料であることを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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酸化物薄膜  ,  電気化学反応 

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