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J-GLOBAL ID：201702216128352657   整理番号：17A1181867

Ni(110)上の初期表面シリサイド化【Powered by NICT】

Initial surface silicidation on Ni(110)

著者 (3件)： Fukuda T. (Department of Physical Electronics and Informatics, Graduate School of Engineering, Osaka City University, Osaka 558-8585, Japan) ,  Kishida I. (Department of Mechanical and Physical Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka City University, Osaka 558-8585, Japan) ,  Umezawa K. (Faculty of Liberal Arts and Sciences, Osaka Prefecture University, Sakai 599-8531, Japan)
資料名： Surface Science  (Surface Science)
巻： 659  ページ： 1-4  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0129B  ISSN： 0039-6028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ni(110)表面上の初期けい化物形成を,超高真空中で走査型トンネル顕微鏡(STM)によって研究した。0.5以下ML Si蒸着の基板Niを置換することによりSi-Ni混合層を開始し,暗点は,STM像で形成された。0.5ml Siを蒸着した表面は,SiとNiは最密充填[11 0]列に整列した[001]方向に沿って整列したSi対はp(1×2),斜めに配列した成形C(2×2),または直線と斜め整列形成c(4×2)超構造を形成することを示した。第一原理全エネルギー計算はp(1×2)とc(4×2)構造はほぼ同じエネルギーC(2×2)構造は13meV/1×1高エネルギーを与えたことを示した。最密充填[11 0]列中のSi-Si結合はエネルギー的に不利なため,0.5MLのSi蒸着は,基板Niの置換はできなかったが,ケイ化物島がトレンチ構造に沿って核形成した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 蒸着 ,  ケイ素 ,  *ケイ化物 ,  第一原理 ,  *ニッケル ,  超高真空 ,  エネルギー計算 ,  混合層 ,  核形成 ,  アラインメント ,  走査型トンネル顕微鏡
準シソーラス用語： トレンチ ,  Si-Si結合 ,  超構造 ,  最密充填 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (3件)： Ni ,  初期 ,  シリサイド