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J-GLOBAL ID:201702216940590193   整理番号:17A0882688

高単分散CeO_2@poly(メチルシルセスキオキサン)ミクロスフェアの作製と紫外線遮蔽膜への応用【Powered by NICT】

Fabrication of highly monodisperse CeO2@poly(methyl silsesquioxane) microspheres and their application in UV-shielding films
著者 (3件):
資料名:
巻: 134  号: 29  ページ: ROMBUNNO.45065  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0467A  ISSN: 0021-8995  CODEN: JAPNAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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高単分散CeO_2@poly(メチルシルセスキオキサン)(PMSQ)ミクロスフェアを簡単な化学的沈殿法により調製することに成功した。CeO_2@PMSQの構造と特性を,Fourier変換赤外分光法,X線回折,および走査電子顕微鏡法によって解析した。PMSQミクロスフェアはCeO_2ナノ粒子で被覆した,約8nmの結晶子径を有する均一にすることを確認した。CeO_2@PMSQは均一溶液のキャスティングによりPVA/CeO_2@PMSQ複合膜を作製するためにポリ(ビニルアルコール)(PVA)マトリックスに導入した。複合フィルムの熱的及び光学的性質を熱重量分析と紫外可視分光法により調べた。結果は,複合材料の高いUV遮蔽効率を示した:2.5wt%CeO_2@PMSQミクロスフェアを含む膜に対して,200と360nmの間の波長で約80%UV光が吸収され,可視領域における光学的透明度はまだ非常に高いであった。CeO2@PMSQミクロスフェアの添加はPVA膜の熱安定性を改善した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (5件):
分類
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充填剤,補強材  ,  共重合  ,  高分子固体の物理的性質  ,  その他の高分子の反応  ,  高分子固体のその他の性質 

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