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J-GLOBAL ID：201702217608277025   整理番号：17A1736994

将来の応用とデバイスのための材料科学における希ガスイオンビーム

Noble gas ion beams in materials science for future applications and devices

著者 (6件)： BELIANINOV Alex (Oak Ridge National Lab., USA) ,  BURCH Matthew J. (Oak Ridge National Lab., USA) ,  KIM Songkil (Oak Ridge National Lab., USA) ,  TAN Shida (Intel Corp., USA) ,  HLAWACEK Gregor (Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, DEU) ,  OVCHINNIKOVA Olga S. (Oak Ridge National Lab., USA)
資料名： MRS Bulletin  (MRS Bulletin)
巻： 42  号： 9  ページ： 660-666  発行年： 2017年09月 
JST資料番号： W1595A  ISSN： 0883-7694  CODEN： MRSBEA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電界電離型ガスイオン源(GFIS)を用いたヘリウムイオン顕微鏡(HIM)法は,材料科学における多くの用途に適合する新しいイメージングおよびナノ製造技術である。ここでは,材料の中エネルギーイオンビーム加工の最近の進歩と,今後の方向性の見通しについて紹介し,He(Ne)イオン顕微鏡の製造および工学的ツールとしての現状を説明し,材料加工および設計にイオンビームを利用するための新たなプロセスを概説する。この技術は,今後数年にわたって物理学および生物科学に重要な影響を及ぼすことが期待される。具体的には,100keV以上のビームエネルギーで信頼性のある運転が保証されると,He,Neイオン顕微鏡法は,バルク材料についても最終的に原子レベルの分解能を実証することができる。

シソーラス用語： *電界イオン化 ,  イオン源 ,  *イオン顕微鏡法 ,  顕微鏡 ,  重イオンビーム ,  *ネオンビーム ,  イオンビーム蒸着 ,  ヘリウム ,  ネオン ,  長さ ,  グラフェン
準シソーラス用語： イオン顕微鏡 ,  ヘリウムビーム ,  原子スケール

分類 (2件)： 電子顕微鏡,イオン顕微鏡  (BD02050B) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 応用 ,  材料科学 ,  希ガス ,  イオンビーム