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J-GLOBAL ID：201702217668275432   整理番号：17A0704001

スパッタしたYSZ/Si膜の結晶粒成長と集合組織発達に及ぼす原位置応力の影響【Powered by NICT】

Effect of in situ stress on grain growth and texture evolution in sputtered YSZ/Si films

著者 (3件)： Banerjee Amiya (Centre for Nano Science and Engineering, Indian Institute of Science, India. [e-mail]) ,  Narayanachari K. V. L. V. ,  Raghavan Srinivasan
資料名： RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))
巻： 7  号： 29  ページ： 17832-17840  発行年： 2017年 
JST資料番号： U7055A  ISSN： 2046-2069  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： イットリア安定化ジルコニア(YSZ)膜をSi基板上に種々の他の機能性酸化物膜の統合のための機能性酸化物とバッファ層として使用されている。これらの酸化物の機能的特性は,本質的には高度に異方性として,高度に配向した膜はそれらの魅力的な特性を実現するのに不可欠である。(111)および(100)配向YSZ膜を反応性直流(R DC)スパッタリングによりSi基板上に堆積した。これらの膜のアニーリングは,集合組織の結晶粒成長と改善された。しかし,これらの膜の堆積中に発達した成長応力に強く依存した。膜/スタックにおける応力利用に依存して,集合組織は,それぞれ16°から7°のロッキングカーブFWHMと(111)と(100)YSZ膜の25°から15°へ改善された。応力と結晶粒成長の間の関係の詳細な分析は,エネルギー収支モデルを用いて行った。結晶粒成長は速度論により制限されることを見出した,熱力学的観点から可能である。は,より高い初期圧縮応力はアニーリングにより顕著な粒成長(~150%)と集合組織改善(~57%)を助けることが観察された。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： ロッキングカーブ ,  バッファ層 ,  *結晶成長 ,  スパッタリング ,  酸化膜 ,  FWHM ,  異方性 ,  *集合組織 ,  圧縮応力 ,  焼なまし ,  酸化物 ,  速度論 ,  シリコンウエハ ,  YSZ【セラミック】 ,  化成皮膜
準シソーラス用語： 機能性 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 燃料電池  (YB04040V) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： スパッタ ,  YSZ ,  Si膜 ,  結晶粒成長 ,  集合組織 ,  発達 ,  応力