イオンビームスパッタNiの熱アニーリングによる酸化ニッケル膜:構造と電気光学的性質【Powered by NICT】

Horak P.; Remes Z.; Bejsovec V.; Vacik J.; Danis S.; Kormunda M.

文献

J-GLOBAL ID：201702217676273375 整理番号：17A1545211

イオンビームスパッタNiの熱アニーリングによる酸化ニッケル膜:構造と電気光学的性質【Powered by NICT】

Nickel oxide films by thermal annealing of ion-beam-sputtered Ni: Structure and electro-optical properties

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巻： 640 ページ： 52-59 発行年： 2017年
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

ニッケル酸化物膜はSi(あるいはガラス)基板上にイオンビームスパッタリングにより蒸着したNiの熱アニールによって調製した。アニーリング温度350°C~500°Cでの空気中アニーリング時間1 7h(1段階)に開放実験室炉で行った。沈着時Ni膜ではシート抵抗Rは8.39Ω/□であることが分かり,有意なXRD回折ピークは観察されなかった。熱アニーリングは,組成と電気的,構造的および光学的特性に顕著な変化をもたらした。酸化過程は10~9Ω/□,酸化されたNiの光吸収端の出現,および主要なNiO(111)回折ピークをもつ多結晶NiO構造の形成までR Sの急速な成長をもたらした。350°Cでアニーリングは短時間アニーリング中限定された酸化のためにシート抵抗の3段階挙動をもたらした。より長い処理時間(>3h)は堆積したNi膜を酸化に必要な,1H酸素含有量(核共鳴分析により分析)をアニーリングは試料の深さに有意に低い濃度を示した後より均一な組成は延長した焼鈍後に見られた。XPS分析は,表面におけるかなりの量の水酸化ニッケルの形成を示した。ERDAによって確認された。光学的性質を光熱偏向分光法(PDS)によって研究した。データは350°Cでシート抵抗の3段階挙動と相関し,短期アニーリング時に,より低い酸化を示唆したが,透明酸化ニッケル膜は,より長いアニーリング中の,より高い温度で形成された。得られた実験データの解析(シート抵抗,X線回折と光吸収スペクトルの測定から)に基づいて,400~°Cの温度は完全に酸化されたNiO膜の形成に最適であることが分かった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

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酸化物薄膜 , 半導体薄膜 , 光物性一般

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