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J-GLOBAL ID：201702217774422894   整理番号：17A0995900

超臨界二酸化炭素を用いたシリコンウエハ上にパターン化されたマイクロスケール溝へのPMDA TFDB型ポリイミドの蒸着【Powered by NICT】

Deposition of PMDA-TFDB type polyimide onto microscale trenches patterned on silicon wafer using supercritical carbon dioxide

著者 (5件)： Haruki Masashi (Faculty of Mechanical Engineering, Institute of Science and Engineering, Kanazawa University, Kakuma-machi, Kanazawa 920-1192, Japan) ,  Wasada Atsuhiko (Department of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Hiroshima University, 1-4-1 Kagamiyama, Higashi-Hiroshima 739-8527, Japan) ,  Hosokawa Yuki (Department of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Hiroshima University, 1-4-1 Kagamiyama, Higashi-Hiroshima 739-8527, Japan) ,  Kihara Shin-ichi (Department of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Hiroshima University, 1-4-1 Kagamiyama, Higashi-Hiroshima 739-8527, Japan) ,  Takishima Shigeki (Department of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Hiroshima University, 1-4-1 Kagamiyama, Higashi-Hiroshima 739-8527, Japan)
資料名： Journal of Supercritical Fluids  (Journal of Supercritical Fluids)
巻： 127  ページ： 200-207  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1591A  ISSN： 0896-8446  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二ポリイミド(PI)単量体対,すなわち,ピロメリト酸二無水物(PMDA,Kapton型テトラカルボン酸二無水物)と2,2′-ビス(トリフルオロメチル)-4,4′-ジアミノビフェニル(TFDB,ふっ素化芳香族ジアミン)とポリアミド酸(PAA,PIの前駆体)を形成する2,2-ビス(3,4-アンヒドロジカルボキシフェニル)-ヘキサフルオロプロパン(6FDA,フッ素化テトラカルボン酸二無水物)と4,4′-ジアミノジフェニルエーテル(ODA,Kapton型芳香族ジアミン)の反応性は50°Cと30MPaで発生した相変化を観測することにより超臨界二酸化炭素(scCO_2)と20mo1%N,N ジメチルホルムアミド(DMF)の混合物中で調べた。結果は暗黙のうちにPMDA TFDB対のPAAの成長速度は6FDA-ODA対のそれよりも低いことを示した。さらに,微小溝へのPMDA TFDB対のPIの堆積は20mo1%DMFを含むscCO_2で行った。溝内部に堆積したPMDA TFDB対のPI(PAA)の量は単量体濃度の増加と100から250°Cまでの堆積温度の低下と共に増加した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 成長速度 ,  前駆体 ,  *超臨界二酸化炭素 ,  *蒸着 ,  反応性 ,  単量体 ,  相転移 ,  *パターン形成 ,  フッ素化
準シソーラス用語： *マイクロスケール ,  *シリコンウエハ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ポリイミド ,  Deposition ,  PMDA ,  TFDB ,  超臨界二酸化炭素

分類 (2件)： 反応工学,反応速度論  (XE01020M) ,  酵素一般  (EB09010D)

タイトルに関連する用語 (6件)： 超臨界二酸化炭素 ,  シリコンウエハ ,  マイクロスケール ,  PMDA ,  ポリイミド ,  蒸着