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J-GLOBAL ID：201702217903470328   整理番号：17A1764172

均一な円形ターゲット利用のための回転十字型磁化高周波スパッタリングプラズマ源

Rotational cross-shaped magnetized radio-frequency sputtering plasma source for uniform circular target utilization

著者 (4件)： Ide Tsubasa (Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Science and Engineering, Saga University, 1 Honjo-machi, Saga 840-8502, Japan) ,  Hossain Md. Amzad (Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Science and Engineering, Saga University, 1 Honjo-machi, Saga 840-8502, Japan and Department of Electrical and Electronic Engineering, Jessore University of Science and Technology, Jessore 7408, Bangladesh) ,  Nakamura Yutaro (Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Science and Engineering, Saga University, 1 Honjo-machi, Saga 840-8502, Japan) ,  Ohtsu Yasunori (Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Science and Engineering, Saga University, 1 Honjo-machi, Saga 840-8502, Japan)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 35  号： 6  ページ： 061312-061312-6  発行年： 2017年11月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,回転円形の磁化高周波(RF)スパッタリングプラズマ源が,均一な円形ターゲット利用のために開発された。十字形の磁化RFプラズマは,ネオジム磁石の十字形の配置を用いて直線的なE×B_rBの相互作用を誘導することによって達成され,ここで,EおよびB_rは,それぞれターゲットに平行な電界および垂直な磁界である。二次元磁場シミュレーションは,ホールパラメータによって電子がイオンの20倍の強さで強く磁化されることを明らかにした。強い十字型のプラズマ放電が観察された。イオン飽和電流の時間発展は,様々な半径方向位置でラングミュアプローブによって測定され,時間平均されたイオン飽和電流は,ターゲットの中心から外側に向かって減少することが分かった。Fe極片がネオジム磁石の十字配列に組み込まれたとき,ターゲットの利用効率は73.6%から86.3%に増加した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *RFスパッタリング ,  *マグネトロンスパッタリング ,  *プラズマ源 ,  *永久磁石 ,  電場 ,  磁場 ,  放電 ,  *Langmuir探針 ,  ターゲット ,  プラズマ放電
準シソーラス用語： *高周波スパッタリング ,  ネオジム磁石 ,  Langmuirプローブ

分類 (3件)： プラズマ診断  (BJ02090L) ,  気体放電  (BJ03020T) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (6件)： 円形 ,  ターゲット ,  十字型 ,  磁化 ,  高周波スパッタリング ,  プラズマ源