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J-GLOBAL ID:201702218109178620   整理番号:17A1727289

PHITS TCADシミュレーションシステムによる28nm FD-SOIと22nm FinFETラッチに及ぼす中性子誘起ソフトエラー率の解析【Powered by NICT】

Analysis of neutron-induced soft error rates on 28nm FD-SOI and 22nm FinFET latches by the PHITS-TCAD simulation system
著者 (3件):
資料名:
巻: 2017  号: SISPAD  ページ: 185-188  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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FinFETとFD-SOIプロセスは放射線誘発時間的誤差を低減し,どのような性能オーバーヘッドなしに回路の信頼性を改善した。進行平面および3次元トランジスタプロセスにおけるSEU率を比較するためにTCADとPHITSを用いて28nm FD-SOIと22nm FinFETフリップフロップの中性子誘起SEU(シングルイベントアップセット)速度を計算した。シミュレーション結果は,22nmのFinFETのSEU率は28nm FD-SOI上のそれの約1/10であることを示した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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トランジスタ 

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